[實(shí)用新型]柔性透明電磁屏蔽膜及制備裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920692169.6
• 申請日: 2019-05-14
• 公開（公告）號: CN210127270U
• 公開（公告）日: 2020-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王魯南;竇立峰
• 申請（專利權(quán)）人: 南京匯金錦元光電材料有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/35;H05K9/00
• 代理公司: 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350
• 代理人: 王清義

本實(shí)用新型提供一種柔性透明電磁屏蔽膜制備裝置，以柔性有機(jī)透明材料為基材，采用柔性、卷繞式、連續(xù)型有機(jī)基材磁控濺射鍍膜技術(shù)在有機(jī)透明基材上下兩面一次性鍍膜制成的柔性透明電磁屏蔽膜；它使用在一個(gè)真空鍍膜腔內(nèi)的多個(gè)磁控濺射裝置，各磁控濺射裝置包括以惰性氣體氬氣作為工作氣體、以氧氣為反應(yīng)氣體的沉積陰極室、位于沉積陰極室內(nèi)的陰極靶材，連續(xù)移動(dòng)的柔性有機(jī)透明基材依次通過各磁控濺射裝置的沉積陰極室，通過各磁控濺射裝置的濺射，并控制通入各沉積陰極室的氧氣和惰性氣體的流量，使得陰極靶材氧化物一次性沉積在柔性有機(jī)透明基材的上下表面。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及涉及真空鍍膜領(lǐng)域，提供一種柔性透明電磁屏蔽膜制備裝置，以柔性有機(jī)透明材料為基材，采用柔性、卷繞式、連續(xù)型有機(jī)基材磁控濺射鍍膜技術(shù)在有機(jī)透明基材上下兩面一次性鍍膜制成的柔性透明電磁屏蔽膜，可廣泛應(yīng)用于柔性透明電磁屏蔽膜、柔性顯示器件、柔性薄膜太陽能電池的生產(chǎn)制造中。

背景技術(shù)

電磁屏蔽是電磁兼容工程中廣泛采用的抑制電磁騷擾的有效裝置之一。隨著各種電子設(shè)備的廣泛應(yīng)用，很多關(guān)鍵、重要部門應(yīng)用光學(xué)窗的場合，如電子設(shè)備的觀察窗口（LCD顯示器、OLED等數(shù)碼顯示屏幕、雷達(dá)顯示器、精密儀器、儀表等顯示器窗口）、建筑物重點(diǎn)部位的觀察窗（采光屏蔽窗、屏蔽室可視窗、可視隔斷屏風(fēng)等）、要求電磁屏蔽的機(jī)柜、指揮儀方艙、通訊車觀察窗等，都要求光學(xué)窗在可見波段具有高透射低反射的光學(xué)特性，同時(shí)還具有較強(qiáng)的寬波段電磁屏蔽能力，防止電磁信息泄漏，防護(hù)電磁輻射污染；有效保障儀器設(shè)備正常工作，保障機(jī)密信息的安全。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種柔性透明電磁屏蔽膜制備裝置，以柔性有機(jī)透明材料為基材，采用柔性、卷繞式、連續(xù)型有機(jī)基材磁控濺射鍍膜技術(shù)在有機(jī)透明基材上下兩面一次性鍍膜制成的柔性透明電磁屏蔽膜，可廣泛應(yīng)用于柔性透明電磁屏蔽膜、柔性顯示器件、柔性薄膜太陽能電池的生產(chǎn)制造中。

本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

柔性透明電磁屏蔽膜制備裝置，它包括在一個(gè)真空鍍膜腔內(nèi)的多個(gè)磁控濺射裝置，各磁控濺射裝置包括以惰性氣體氬氣作為工作氣體、以氧氣為反應(yīng)氣體的沉積陰極室、位于沉積陰極室內(nèi)的陰極靶材，連續(xù)移動(dòng)的柔性有機(jī)透明基材依次通過各磁控濺射裝置的沉積陰極室，通過各磁控濺射裝置的濺射，并控制通入各沉積陰極室的氧氣和惰性氣體的流量，使得陰極靶材氧化物一次性沉積在柔性有機(jī)透明基材的上下表面；在真空鍍膜腔內(nèi)設(shè)置有用于避免陰極靶材氧化物沉積殘?jiān)袈溆谌嵝杂袡C(jī)透明基材上而對沉積質(zhì)量產(chǎn)生影響的防污裝置。

上述柔性透明電磁屏蔽膜制備裝置，以柔性有機(jī)透明材料為基材，采用柔性、卷繞式、連續(xù)型有機(jī)基材磁控濺射鍍膜技術(shù)在有機(jī)透明基材上下兩面一次性鍍膜制成的柔性透明電磁屏蔽膜，可廣泛應(yīng)用于柔性透明電磁屏蔽膜、柔性顯示器件、柔性薄膜太陽能電池的生產(chǎn)制造中。

上述的柔性透明電磁屏蔽膜制備裝置，柔性有機(jī)透明基材依次通過陰極靶材分別是Si、Al、Si、Nb、Si、Si、AZO、Al的第一至第八磁控濺射裝置，各磁控濺射裝置沉積陰極室內(nèi)均通入作為反應(yīng)氣體的氧氣；先后由第一、第二磁控濺射裝置作用在柔性有機(jī)透明基材上表面依次沉積SiO₂阻隔層、Al₂O₃透明硬化層，繼而先后由第三至第八磁控濺射裝置作用在柔性有機(jī)基材下表面依次沉積SiO₂阻隔層、NbO_X（0≤x≤5）調(diào)節(jié)層1、SiO₂調(diào)節(jié)層2、SiO_X（0≤x≤2）調(diào)節(jié)層3、AZO透明磁屏蔽層、Al₂O₃透明硬化層。

上述的柔性透明電磁屏蔽膜制備裝置，第一磁控濺射裝置中，氧氣流量12sccm、氬氣流量500 sccm、濺射功率2.0KW，真空度達(dá)到4×10^-3 torr；