[實用新型]雙加熱裝置

有效

• 申請號: 201920687186.0
• 申請日: 2019-05-14
• 公開（公告）號: CN209624976U
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 王云翔;冒薇;段仲偉;馬冬月;許愛玲;李曉帥;祝翠梅;姚園
• 申請（專利權）人: 蘇州美圖半導體技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 南京思拓知識產權代理事務所(普通合伙) 32288
• 代理人: 苗建

本實用新型涉及一種烤膠用加熱裝置，尤其是一種雙加熱裝置，屬于MEMS的技術領域。按照本實用新型提供的技術方案，所述雙加熱裝置，包括加熱支撐殼體、設置于所述加熱支撐殼體上的下加熱盤以及與所述加熱支撐殼體鉸接的防護罩，在所述防護罩內設置能吸附硅片的上加熱盤以及能對上加熱盤上硅片加熱的上加熱器；在加熱支撐殼體內設置下加熱器，防護罩壓蓋在加熱支撐殼體上時，上加熱盤能與下加熱盤正對應，通過上加熱器、下加熱器能對上加熱盤與下加熱盤之間的硅片的兩面同時進行加熱。本實用新型結構緊湊，采用雙層加熱的形式，能有效提高烤膠的均勻性，便于實現后期刻蝕中獲得更好地線寬，使用方便，安全可靠。

技術領域

本實用新型涉及一種烤膠用加熱裝置，尤其是一種雙加熱裝置，屬于MEMS的技術領域。

背景技術

在MEMS（Micro-Electro-Mechanical System）領域，烤膠是光刻工藝的基本步驟之一，即在一定的溫度下，使光刻膠膜里面的溶劑緩慢地、充分地逸出來，使光刻膠膜干燥，烤膠提高了光刻膠的粘附性，提升了硅片上光刻膠的均勻性，在刻蝕中能得更好的線寬控制。目前，在進行烤膠時，烤膠的均勻性難以保證，無法有效在后期的刻蝕工藝中獲得更好地線寬。

發明內容

本實用新型的目的是克服現有技術中存在的不足，提供一種雙加熱裝置，其結構緊湊，采用雙層加熱的形式，能有效提高烤膠的均勻性，便于實現后期刻蝕中獲得更好地線寬，使用方便，安全可靠。

按照本實用新型提供的技術方案，所述雙加熱裝置，包括加熱支撐殼體、設置于所述加熱支撐殼體上的下加熱盤以及與所述加熱支撐殼體鉸接的防護罩，在所述防護罩內設置能吸附硅片的上加熱盤以及能對上加熱盤上硅片加熱的上加熱器；在加熱支撐殼體內設置下加熱器，防護罩壓蓋在加熱支撐殼體上時，上加熱盤能與下加熱盤正對應，通過上加熱器、下加熱器能對上加熱盤與下加熱盤之間的硅片的兩面同時進行加熱。

在防護罩內還設置上隔熱板，上加熱器、上加熱盤固定安裝于上隔熱板上，上隔熱板通過上隔熱板支撐柱安裝于防護罩內，上加熱器位于上加熱盤與上隔熱板之間。

在所述防護罩上設置若干罩體散熱孔，在上加熱盤上設置真空吸附孔。

所述防護罩通過鉸鏈鉸接在加熱支撐殼體上，在防護罩的背面還設置用于調節鉸鏈打開角度的調節塊。

在所述加熱支撐殼體內設置用于與下加熱器適配連接的下隔熱板，在加熱支撐殼體內設置用于支撐下隔熱板的隔熱板支撐柱。

在所述加熱支撐殼體的底端設置若干均勻分布的可調底座，在加熱支撐殼體上還設置觸摸屏。

在防護罩上還設置防護罩拉手。

本實用新型的優點：在加熱支撐殼體上設置下加熱盤，在防護罩內設置上加熱盤，待烤膠的硅片能吸附在上加熱盤上，防護罩壓蓋在加熱支撐殼體上后，上加熱盤與下加熱盤正對應，從而通過上加熱器、下加熱器能實現對硅片的雙面加熱，能有效提高烤膠的均勻性，便于實現后期刻蝕中獲得更好地線寬，使用方便，安全可靠。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為本實用新型防護罩處于打開狀態的示意圖。

圖3為本實用新型防護罩壓蓋在加熱支撐殼體上的示意圖。

圖4為本實用新型的剖視圖。

附圖標記說明：1-殼體上板、2-下加熱盤、3-殼主體、4-可調底座、5-觸摸屏、6-鉸鏈、7-防護罩、8-上加熱器、9-上加熱盤、10-上隔熱板、11-上隔熱板支撐柱、12-真空吸附孔、13-硅片、14-防護罩拉手、15-調節塊、16-隔熱板支撐柱、17-下隔熱板、18-下加熱器以及19-罩體散熱孔。

具體實施方式