[實用新型]一種低剩余幅度調制的電光相位調制器

有效

• 申請號: 201920675611.4
• 申請日: 2019-05-13
• 公開（公告）號: CN210005814U
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發明（設計）人: 賈森;王先華
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G02F1/03
• 分類號: G02F1/03;G02F1/00
• 代理公司: 61211 西安智邦專利商標代理有限公司
• 代理人: 史曉麗

為了解決現有降低剩余幅度調制的方案，只能在一定程度上減弱剩余幅度調制效應，以及操作繁瑣費時、增加了光路調節和布置的難度、對電光晶體的放置精度要求較高、不利于器件小型化的技術問題，本實用新型提供一種低剩余幅度調制的電光相位調制器，本實用新型通過設計特殊結構的光電晶體，并使光電晶體的通光面與殼體上通光孔的位置相對應，避免了光束在兩個通光面之間的來回反射，有效減少了剩余幅度調制，進而提高了相位調制的精確度。在電光晶體長度相同的條件下，光束在本實用新型電光晶體中的傳輸距離更長，進而使電光調制的有效長度更大，因此能顯著減少電光相位調制器的長度和橫向尺寸，有利于器件小型化。

技術領域

本實用新型涉及激光控制技術領域，尤其涉及一種低剩余幅度調制的電光相位調制器。

背景技術

電光相位調制技術具有較高的靈敏度，因此，電光相位調制技術廣泛應用于原子精密光譜、激光頻率鎖定等技術領域，目前，一般通過電光相位調制器實現電光相位調制，電光相位調制器的核心部件為電光晶體。

目前，電光相位調制分為橫向電光相位調制和縱向電光相位調制，在橫向電光調制中，需要保證電場方向和電光晶體內部的光束方向垂直，一般通過如下方式實現：通過射頻電路在長方體狀電光晶體的相對的兩個設置有電極的表面發送射頻信號，使得這兩個表面之間形成方向與這兩個表面垂直的電場，光束從一個通光面(入射通光面)垂直入射至該電光晶體內部，使得進入到電光晶體內部的光束方向與電場方向垂直。在上述方式中，當光束到達封裝殼體內電光晶體另一端的通光面(出射通光面)并從該通光面離開電光晶體時，光束在該通光面上會產生反射，將光束中的一部分光反射回入射通光面，于是這部分光將經過電光晶體內部并在電光晶體的兩個通光面之間來回反射，進而引起剩余幅度調制，剩余幅度調制對相位調制的精確度會造成不良的影響，且剩余幅度調制越高，對相位調制的精確度的影響越大。在精密原子光譜試驗中，電光相位調制器的剩余幅度調制效應是影響試驗精度提高的一項主要誤差來源。

在現有技術中，為了降低剩余幅度調制，一般在電光晶體的入射通光面和出射通光面上鍍增透膜，通過增透膜減少光束在兩個通光面之間來回反射，但增透膜并不能完全避免光束在兩個通光面之間來回反射，仍存在微弱的剩余光束能量在兩個通光面之間來回反射，因此與不鍍膜的情況相比，該方法雖然能夠減弱剩余幅度調制效應，但對精密原子光譜試驗而言剩余幅度調制效應的影響仍然明顯。

另外一種方案如圖1所示，是將電光晶體的入射通光面和出射通光面與上、下電極面均切割成布儒斯特角θ，且入射光面和出射光面平行，這種方式有效的減少了光束在兩個通光面之間來回反射，使剩余幅度調制效應得到極大的抑制，因而能顯著提高相位調制的精確度。但該方法要求光束與電光晶體的入射面呈布儒斯特角θ入射，光束入射時需要精密調節入射角度，甚至需要借助專門的角度測量裝置，因此在實際使用時操作繁瑣費時，特別是該方式會使得電光相位調制器的入射光束與出射光束在空間位置上產生橫向偏差，極大的增加了光路調節和布置的難度，同時對電光晶體在封裝殼體中的放置精度要求較高，還增加了電光相位調制器的橫向尺寸，不利于器件的小型化。

實用新型內容

為了解決現有降低剩余幅度調制的方案，只能在一定程度上減弱剩余幅度調制效應，以及操作繁瑣費時、增加了光路調節和布置的難度、對電光晶體的放置精度要求較高、不利于器件小型化的技術問題，本實用新型提供一種低剩余幅度調制的電光相位調制器。

本實用新型的技術解決方案如下：

一種低剩余幅度調制的電光相位調制器，包括殼體以及設置在殼體內的電光晶體和射頻電路；電光晶體包括上電極面ABCD、下電極面A′B′C′D′、第一通光面ACA′C′、第二通光面DBD′B′、第一反光面ABA′B′和第二反光面CDC′D′；A、B、D、C分別為上電極面四個頂點的順序標記，A′、B′、D′、C′分別為下電極面四個頂點的順序標記；

殼體上其中兩個相對的側壁上分別設置有第一通光孔和第二通光孔；殼體的側壁上還設置有射頻信號轉接頭；