[實(shí)用新型]一種低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920675611.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-05-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN210005814U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-01-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈森;王先華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G02F1/03 | 分類號(hào): | G02F1/03;G02F1/00 |
| 代理公司: | 61211 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 史曉麗 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 剩余幅度 調(diào)制 本實(shí)用新型 電光晶體 電光相位調(diào)制器 光電晶體 通光面 傳輸距離 電光調(diào)制 光路調(diào)節(jié) 精度要求 相位調(diào)制 有效長(zhǎng)度 有效減少 通光孔 殼體 反射 | ||
1.一種低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,包括殼體(100)以及設(shè)置在殼體(100)內(nèi)的電光晶體(200)和射頻電路(300);電光晶體(200)包括上電極面ABCD、下電極面A′B′C′D′、第一通光面ACA′C′、第二通光面DBD′B′、第一反光面ABA′B′和第二反光面CDC′D′;A、B、D、C分別為上電極面四個(gè)頂點(diǎn)的順序標(biāo)記,A′、B′、D′、C′分別為下電極面四個(gè)頂點(diǎn)的順序標(biāo)記;
殼體(100)上其中兩個(gè)相對(duì)的側(cè)壁上分別設(shè)置有第一通光孔(102)和第二通光孔(101);殼體(100)的側(cè)壁上還設(shè)置有射頻信號(hào)轉(zhuǎn)接頭(103);
射頻電路(300)的兩個(gè)信號(hào)輸入電極與所述射頻信號(hào)轉(zhuǎn)接頭(103)的兩極分別連接,射頻電路(300)的兩個(gè)信號(hào)輸出電極分別與電光晶體(200)的上電極面ABCD和下電極面A′B′C′D′連接;
其特征在于:
上電極面ABCD與下電極面A′B′C′D′為全等的梯形,且二者相互平行;上電極面ABCD和下電極面A′B′C′D′正對(duì)部分均鍍有導(dǎo)電膜;
第一通光面ACA′C′和第二通光面DBD′B′均位于上電極面ABCD與下電極面A′B′C′D′之間,且二者關(guān)于上電極面ABCD中線對(duì)稱;第一通光面ACA′C′和第二通光面DBD′B′均與上電極面ABCD垂直;
第一反光面ABA′B′和第二反光面CDC′D′平行,并均與上電極面ABCD垂直,且第一反光面ABA′B′和第二反光面CDC′D′上均鍍有對(duì)所述電光晶體所通過(guò)光波長(zhǎng)的介質(zhì)全反射膜;
第一反光面ABA′B′與第一通光面ACA′C′之間的夾角、第一反光面ABA′B′與第二通光面DBD′B′之間的夾角均為布儒斯特角的余角;
電光晶體(200)的光軸方向?yàn)閺牡谝环垂饷鍭BA′B′指向第二反光面CDC′D′的方向;
所述第一反光面ABA′B′的長(zhǎng)邊長(zhǎng)度根據(jù)公式確定,其中:n是電光晶體(200)對(duì)尋常光的折射率,h是第一反光面ABA′B′與第二反光面CDC′D′之間的距離,j是光束在第二反光面CDC′D′的反射次數(shù);
所述第一通光孔(102)與所述第一通光面ACA′C′位置相對(duì)應(yīng),第二通光孔(101)與所述第二通光面DBD′B′位置相對(duì)應(yīng);第一通光孔(102)與第二通光孔(101)的中心軸線,均與所述第一反光面ABA′B′和第二反光面CDC′D′平行,并且均穿過(guò)第一通光面ACA′C′和第二通光面DBD′B′的幾何中心。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:電光晶體(200)的相鄰兩個(gè)面間的角度誤差不大于2角分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:電光晶體(200)的兩個(gè)平行面之間的平行度不大于2角分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:第一通光面ACA′C′、第二通光面DBD′B′、第一反光面ABA′B′和第二反光面CDC′D′的表面粗糙度均優(yōu)于0.008微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:第一反光面ABA′B′和第二反光面CDC′D′鍍膜后的反射率均不低于99.7%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:所述導(dǎo)電膜為金膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:所述殼體(100)采用銅材制作。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:上電極面ABCD與下電極面A′B′C′D′之間的距離大于入射光束的直徑。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:電光晶體(200)為鈮酸鋰晶體、摻鎂鈮酸鋰晶體或磷酸鈦氧鉀晶體。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的低剩余幅度調(diào)制的電光相位調(diào)制器,其特征在于:所述下電極面A′B′C′D′上設(shè)置有導(dǎo)電膠,電光晶體(200)通過(guò)所述導(dǎo)電膠固定在殼體(100)內(nèi)。
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