[實用新型]一種載板及鈍化設備有效
| 申請號: | 201920661953.0 | 申請日: | 2019-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN209544295U | 公開(公告)日: | 2019-10-25 |
| 發明(設計)人: | 劉裕通;王其林 | 申請(專利權)人: | 鹽城阿特斯陽光能源科技有限公司;阿特斯陽光電力集團有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/673 | 分類號: | H01L21/673;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 224000 江蘇省鹽*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 容置槽 載板 本實用新型 鈍化設備 容置位 容納 鈍化處理 依次減小 可選 | ||
1.一種載板,所述載板(100)包括用于容納工件的容置位(A),其特征在于,所述容置位(A)上沿所述載板(100)的厚度方向設置有至少兩個容置槽(1),沿所述厚度方向由上至下所述容置槽(1)的面積依次減小,工件可選地放置于任一個所述容置槽(1)中。
2.根據權利要求1所述的載板,其特征在于,位于最下層的所述容置槽(1)的底部設置有沉槽(2)。
3.根據權利要求2所述的載板,其特征在于,所述沉槽(2)的底部設置有通孔(3)。
4.根據權利要求1所述的載板,其特征在于,所述容置槽(1)的內側壁(12)設置有凹槽(11),所述凹槽(11)朝向背離所述容置槽(1)中心的方向凹陷。
5.根據權利要求4所述的載板,其特征在于,所述容置槽(1)為多邊形,所述凹槽(11)位于所述容置槽(1)的邊角處。
6.根據權利要求1所述的載板,其特征在于,所述容置槽(1)的內側壁(12)設置有導向結構。
7.根據權利要求6所述的載板,其特征在于,所述內側壁(12)的上部朝向背離所述容置槽(1)中心的方向傾斜設置形成所述導向結構。
8.根據權利要求1所述的載板,其特征在于,所述容置位(A)設置有多個。
9.根據權利要求1所述的載板,其特征在于,至少一個所述容置槽(1)包括呈陣列分布的多個子槽(13)。
10.一種鈍化設備,包括腔體,所述腔體內設置有沉積裝置,其特征在于,還包括根據權利要求1-9任一項所述的載板(100),所述載板(100)設置于所述腔體中,并位于沉積裝置的下側。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





