[實用新型]涂膠單元以及涂膠顯影系統

有效

• 申請號: 201920651509.0
• 申請日: 2019-05-08
• 公開（公告）號: CN209946631U
• 公開（公告）日: 2020-01-14
• 發明（設計）人: 李明欣;朱成云;古哲安;黃志凱;葉日銓
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 31295 上海思捷知識產權代理有限公司
• 代理人: 王宏婧

本實用新型提供了一種涂膠單元以及涂膠顯影系統，所述涂膠單元包括工藝箱體、載片臺、壓力監測裝置和通風系統，所述通風系統包括供風系統和排風系統，所述工藝箱體包括開口和排風口，所述工藝箱體內部設有所述壓力監測裝置。光阻在旋涂的過程中，所述壓力監測裝置對所述工藝箱體內部的壓力進行實時監測，可以及時發現所述工藝箱體內部的壓力異常，有助于提高光阻厚度的均勻性。

技術領域

本實用新型涉及半導體領域，尤其涉及一種涂膠單元以及涂膠顯影系統。

背景技術

在半導體制造工藝中，光刻工藝一直被認為是集成電路制造中最關鍵的步驟，在整個工藝過程中需要被多次使用，其穩定性、可靠性和工藝成品率對產品的質量、良率和成本有著重要的影響。光刻的本質是把臨時電路結構以圖形的形式復制到以后要進行刻蝕或離子注入的基底如晶圓上。光刻工藝是一個復雜的過程，通常可包括光阻涂布、曝光和顯影，具體而言，首先在晶圓上覆蓋一層感光材料即光阻(亦稱為光刻膠)，再將平行光經過一掩膜版照射在光阻上使其曝光而變質，最后利用顯影液進行顯影完成圖形轉移。其中光阻的厚度和均勻度對光刻工藝的質量有很大的影響，只有光阻具有良好的附著性、抗刻蝕性及高分辨率才能實現完整的圖形轉移。所以對于半導體制造工藝而言，光阻的形成質量非常重要。

一般情況下，光阻的涂布工藝是在涂膠顯影系統(CDS(Coat&DevelopmentSystem)，又稱為Track設備)的涂膠單元(COT)中完成。但在實踐中發現，利用涂膠單元所形成的光阻的均勻性不夠理想，影響了產品的良率，甚至會導致產品報廢。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種涂膠單元以及涂膠顯影系統，以解決因工藝箱體內部壓力變化所導致的光阻均勻性差的問題。

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種涂膠單元，包括工藝箱體、用于承載基底的載片臺、壓力監測裝置和通風系統，所述載片臺設置于所述工藝箱體內，所述工藝箱體具有可供所述基底進出的開口，所述通風系統通過所述開口向所述工藝箱體內通風，所述壓力監測裝置設置于所述工藝箱體上并用于監測所述工藝箱體內的壓力。

可選的，在所述涂膠單元中，所述壓力監測裝置設置在所述開口處的工藝箱體內壁上。

可選的，在所述涂膠單元中，所述壓力監測裝置的數量為至少兩個，至少兩個壓力監測裝置均勻分布在所述開口處的工藝箱體內壁上。

可選的，在所述涂膠單元中，所述開口處的工藝箱體內壁上設有凹槽，所述壓力監測裝置嵌設在所述凹槽內。

可選的，在所述涂膠單元中，所述載片臺包括一真空吸盤，所述真空吸盤處于涂膠狀態時其邊緣與所述壓力監測裝置的垂直距離范圍小于3cm。

可選的，在所述涂膠單元中，所述工藝箱體的底部具有排風口，所述通風系統包括供風系統和排風系統，所述供風系統通過所述開口向所述工藝箱體內供風，所述排風系統通過所述排風口排風。

可選的，在所述涂膠單元中，所述涂膠單元還包括控制模塊，所述供風系統中設有調節閥，所述控制模塊分別與所述調節閥和壓力監測裝置電連接，所述控制模塊根據所述壓力監測裝置偵測到的壓力值通過所述調節閥調節所述供風系統的供風量。

可選的，在所述涂膠單元中，所述涂膠單元還包括控制模塊，所述排風系統中設有調節閥，所述控制模塊分別與所述調節閥和壓力監測裝置電連接，所述控制模塊根據所述壓力監測裝置偵測到的壓力值通過所述調節閥調節所述排風系統的排風量。

可選的，在所述涂膠單元中，所述壓力監測裝置為壓力傳感器。

為實現上述目的以及其它相關目的，本實用新型還提供了一種涂膠顯影系統，包括如上任一項所述的涂膠單元。