[實用新型]一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置

有效

• 申請號: 201920630996.2
• 申請日: 2019-05-06
• 公開（公告）號: CN209974867U
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發明（設計）人: 陳開龍
• 申請（專利權）人: 深圳市沃克力技術有限公司
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，包括清洗罐，清洗罐上端設有開口，清洗罐上端固定連接有驅動件，驅動件的驅動端固定連接有攪拌件，攪拌件貫穿開口設置并延伸至清洗罐內，清洗罐靠近底部的右側內壁上連通設置有出液管，清洗罐底部上設有出料件，清洗罐下端固定連接有若干支撐柱。本實用新型通過驅動電機帶動若干攪拌桿對清洗罐內的溶液進行攪拌，使得溶液與物體上的離子源充分反應，同時攪拌桿上的清洗刷能夠在攪拌中對清洗罐內壁進行刷洗，防止離子源附著在清洗罐內壁上，通過超聲波發生器和換能器，配合物體和溶液反應時進行超聲清洗，使得離子源能夠快速與物體分離，提升清洗的效率。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜設備技術領域，尤其涉及一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置。

背景技術

真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上，在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜，雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

眾所周知，在沉積成膜之前，需要利用等離子直流源對表面進行預處理，導致被處理的物體表面存在異物，且難以清除干凈，現提出一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置來解決上述問題。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置。

為了實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：

一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，包括清洗罐，所述清洗罐上端設有開口，所述清洗罐上端固定連接有驅動件，所述驅動件的驅動端固定連接有攪拌件，所述攪拌件貫穿開口設置并延伸至清洗罐內，所述清洗罐靠近底部的右側內壁上連通設置有出液管，所述清洗罐底部上設有出料件，所述清洗罐下端固定連接有若干支撐柱，左側兩根所述支撐柱的左端側壁上固定連接有清洗件，所述清洗件貫穿清洗罐左側內壁設置。

優選地，所述驅動件包括固定連接于清洗罐上端的U型板，所述U型板的開口朝下設置，所述U型板的頂面上固定連接有驅動電機，所述驅動電機的驅動軸豎直朝下設置，所述攪拌件固定連接于驅動電機的驅動軸上。

優選地，所述攪拌件包括固定連接于驅動電機驅動軸上的連接桿，所述連接桿貫穿開口設置并延伸至清洗罐內，所述連接桿位于清洗罐內的一端環形側壁上固定連接有若干攪拌桿。

優選地，若干所述攪拌桿均呈傾斜設置，若干所述攪拌桿遠離連接桿的一端上均固定連接有清洗刷，若干所述清洗刷遠離攪拌桿的一端與清洗罐的內壁相抵接觸。

優選地，所述出料件包括連通設置于清洗罐底部上出料管，所述出料管的下方設有蓋板，所述出料管下端設有若干等間分布的插槽，所述蓋板的上端固定連接有若干與插槽相匹配的插塊，若干所述插塊分別插設于若干插槽內，所述蓋板的上端固定連接有密封環，所述密封環套接于出料管上。

優選地，所述清洗件包括固定連接于左側兩根支撐柱左端側壁上的支撐板，所述支撐板的上端放置有超聲波發生器，所述超聲波發生器的輸出端連通設置有連接管，所述連接管遠離超聲波發生器的一端貫穿清洗罐左側內壁設置，所述連接管位于清洗罐內的一端上固定連接有換能器。

本實用新型與現有技術相比，其有益效果為：

1、通過驅動電機帶動若干攪拌桿對清洗罐內的溶液進行攪拌，使得溶液與物體上的離子源充分反應，同時攪拌桿上的清洗刷能夠在攪拌中對清洗罐內壁進行刷洗，防止離子源附著在清洗罐內壁上。

2、通過超聲波發生器和換能器，配合物體和溶液反應時進行超聲清洗，使得離子源能夠快速與物體分離，提升清洗的效率。

附圖說明