[實用新型]一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置

有效

• 申請號: 201920630996.2
• 申請日: 2019-05-06
• 公開（公告）號: CN209974867U
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發明（設計）人: 陳開龍
• 申請（專利權）人: 深圳市沃克力技術有限公司
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，包括清洗罐(1)，其特征在于，所述清洗罐(1)上端設有開口(2)，所述清洗罐(1)上端固定連接有驅動件(3)，所述驅動件(3)的驅動端固定連接有攪拌件(4)，所述攪拌件(4)貫穿開口(2)設置并延伸至清洗罐(1)內，所述清洗罐(1)靠近底部的右側內壁上連通設置有出液管(5)，所述清洗罐(1)底部上設有出料件(6)，所述清洗罐(1)下端固定連接有若干支撐柱(7)，左側兩根所述支撐柱(7)的左端側壁上固定連接有清洗件(8)，所述清洗件(8)貫穿清洗罐(1)左側內壁設置。

2.根據權利要求1所述的一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于，所述驅動件(3)包括固定連接于清洗罐(1)上端的U型板(9)，所述U型板(9)的開口朝下設置，所述U型板(9)的頂面上固定連接有驅動電機(10)，所述驅動電機(10)的驅動軸豎直朝下設置，所述攪拌件(4)固定連接于驅動電機(10)的驅動軸上。

3.根據權利要求2所述的一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于，所述攪拌件(4)包括固定連接于驅動電機(10)驅動軸上的連接桿(11)，所述連接桿(11)貫穿開口(2)設置并延伸至清洗罐(1)內，所述連接桿(11)位于清洗罐(1)內的一端環形側壁上固定連接有若干攪拌桿(12)。

4.根據權利要求3所述的一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于，若干所述攪拌桿(12)均呈傾斜設置，若干所述攪拌桿(12)遠離連接桿(11)的一端上均固定連接有清洗刷(13)，若干所述清洗刷(13)遠離攪拌桿(12)的一端與清洗罐(1)的內壁相抵接觸。

5.根據權利要求1所述的一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于，所述出料件(6)包括連通設置于清洗罐(1)底部上出料管(14)，所述出料管(14)的下方設有蓋板(15)，所述出料管(14)下端設有若干等間分布的插槽(16)，所述蓋板(15)的上端固定連接有若干與插槽(16)相匹配的插塊(17)，若干所述插塊(17)分別插設于若干插槽(16)內，所述蓋板(15)的上端固定連接有密封環(18)，所述密封環(18)套接于出料管(14)上。

6.根據權利要求1所述的一種應用在真空鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于，所述清洗件(8)包括固定連接于左側兩根支撐柱(7)左端側壁上的支撐板(19)，所述支撐板(19)的上端放置有超聲波發生器(20)，所述超聲波發生器(20)的輸出端連通設置有連接管(21)，所述連接管(21)遠離超聲波發生器(20)的一端貫穿清洗罐(1)左側內壁設置，所述連接管(21)位于清洗罐(1)內的一端上固定連接有換能器(22)。