[實用新型]一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 201920628454.1
• 申請日: 2019-05-05
• 公開（公告）號: CN209974876U
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發明（設計）人: 陳開龍
• 申請（專利權）人: 深圳市沃克力技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，包括機箱，所述機箱的上端安裝有支撐件，所述支撐件的上端一側安裝有真空箱，所述真空箱的上端一側安裝有磁控靶頭，所述支撐件上滑動連接有濺射靶臺，所述濺射靶臺的下端兩側分別焊接有導向軸，所述導向軸滑動連接在支撐件上。本實用新型通過伺服電機的正轉和反轉，使得轉動軸帶動兩個轉動螺紋發生轉動，帶動兩個活動套在轉動螺紋上進行相互靠近和遠離，從而使得連桿的上端發生高度變化，從而使得濺射靶臺的高度進行調節，當磁控濺射的范圍固定的話，通過濺射靶臺的高度調節，使得基片的濺射范圍發生變化，從而更好的適應不同的產品需求。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜技術領域，尤其涉及一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備。

背景技術

磁控濺射鍍膜設備是一種利用濺射的方式進行鍍膜的設備，可以有效的提高產品的外觀質量，同時也可以對不同的產品進行外觀保護；

目前的磁控濺射鍍膜設備的磁控濺射靶以及蒸發源都是固定安裝在真空室內，使用靈活性較差，使得鍍膜過程中，鍍膜產品與濺射把頭的距離不便于調節，使得鍍膜的濺射范圍不便于調節，不利于滿足鍍膜產品的各項需求。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的問題，而提出的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備。

為了實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：

一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，包括機箱，所述機箱的上端安裝有支撐件，所述支撐件的上端一側安裝有真空箱，所述真空箱的上端一側安裝有磁控靶頭，所述支撐件上滑動連接有濺射靶臺，所述濺射靶臺的下端兩側分別焊接有導向軸，所述導向軸滑動連接在支撐件上，兩個所述導向軸的下端共同焊接有連接座，所述連接座和機箱的側壁上共同安裝有調節裝置。

優選地，所述調節裝置包括伺服電機,所述機箱的側壁上焊接有固定塊，所述固定塊上安裝有軸承，所述伺服電機的輸出端安裝有轉動軸，所述轉動軸遠離伺服電機的一端過盈配合在軸承的內圈上，所述轉動軸上一體成型有兩個轉動螺紋，且兩個轉動螺紋的螺紋方向相反，兩個所述轉動螺紋上均螺紋連接有活動套，兩個所述活動套上均螺紋連接有連桿，所述連桿遠離活動套的一端轉動連接在連接座上。

優選地，所述轉動軸位于兩個轉動螺紋之間的位置焊接有中格擋。

優選地，所述轉動軸位于兩個轉動螺紋相互遠離的一端均焊接有外格擋。

優選地，所述濺射靶臺和支撐件均超出機箱邊緣。

優選地，所述連桿轉動連接在活動套兩端，且兩個連桿分別轉動連接在連接座下端兩側。

本實用新型與現有技術相比具有以下好處：

1、本實用新型通過伺服電機的正轉和反轉，使得轉動軸帶動兩個轉動螺紋發生轉動，帶動兩個活動套在轉動螺紋上進行相互靠近和遠離，從而使得連桿的上端發生高度變化，從而使得濺射靶臺的高度進行調節，當磁控濺射的范圍固定的話，通過濺射靶臺的高度調節，使得基片的濺射范圍發生變化，從而更好的適應不同的產品需求；

2、通過導向軸對濺射靶臺的移動進行限位，提高濺射靶臺的移動穩定性，同時通過濺射靶臺的高度調節，可以控制對基片的濺射強度，有利于調節基片的濺射穩定點。

附圖說明

圖1為本實用新型提出的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備的結構圖；

圖2為本實用新型提出的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備的A部分放大圖。

圖中：1機箱、2伺服電機、3轉動軸、4轉動螺紋、5活動套、6固定塊、7連桿、8連接座、9導向軸、10支撐件、11真空箱、12濺射靶臺、13磁控靶頭、14外格擋。

具體實施方式