[實用新型]一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 201920628454.1
• 申請日: 2019-05-05
• 公開（公告）號: CN209974876U
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發明（設計）人: 陳開龍
• 申請（專利權）人: 深圳市沃克力技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，包括機箱(1)，其特征在于，所述機箱(1)的上端安裝有支撐件(10)，所述支撐件(10)的上端一側安裝有真空箱(11)，所述真空箱(11)的上端一側安裝有磁控靶頭(13)，所述支撐件(10)上滑動連接有濺射靶臺(12)，所述濺射靶臺(12)的下端兩側分別焊接有導向軸(9)，所述導向軸(9)滑動連接在支撐件(10)上，兩個所述導向軸(9)的下端共同焊接有連接座(8)，所述連接座(8)和機箱(1)的側壁上共同安裝有調節裝置。

2.根據權利要求1所述的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述調節裝置包括伺服電機(2),所述機箱(1)的側壁上焊接有固定塊(6)，所述固定塊(6)上安裝有軸承，所述伺服電機(2)的輸出端安裝有轉動軸(3)，所述轉動軸(3)遠離伺服電機(2)的一端過盈配合在軸承的內圈上，所述轉動軸(3)上一體成型有兩個轉動螺紋(4)，且兩個轉動螺紋(4)的螺紋方向相反，兩個所述轉動螺紋(4)上均螺紋連接有活動套(5)，兩個所述活動套(5)上均螺紋連接有連桿(7)，所述連桿(7)遠離活動套(5)的一端轉動連接在連接座(8)上。

3.根據權利要求2所述的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述轉動軸(3)位于兩個轉動螺紋(4)之間的位置焊接有中格擋。

4.根據權利要求2所述的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述轉動軸(3)位于兩個轉動螺紋(4)相互遠離的一端均焊接有外格擋(14)。

5.根據權利要求1所述的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，其特征在于,所述濺射靶臺(12)和支撐件(10)均超出機箱(1)邊緣。

6.根據權利要求2所述的一種可調節高度的立式雙面磁控濺射鍍膜設備，其特征在于,所述連桿(7)轉動連接在活動套(5)兩端，且兩個連桿(7)分別轉動連接在連接座(8)下端兩側。