[實用新型]靶材制作裝置

有效

• 申請號: 201920619710.0
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN210420135U
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 張蛟;周維國;徐國軍;萬捷
• 申請（專利權）人: 領凡新能源科技（北京）有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京智晨知識產權代理有限公司 11584
• 代理人: 張婧

本申請提供一種靶材制作裝置，包括熔煉室和設置在所述熔煉室一側的霧化室，所述熔煉室設有導流管，所述導流管一端由熔煉室通入熔融的靶材原料，所述導流管另一端延伸到霧化室內，所述霧化室內固設有靶材固定件，所述導流管朝向所述靶材固定件方向，所述導流管外側套設有霧化噴盤，所述霧化噴盤與外界惰性氣體氣源連通。本申請中，采用霧化噴盤與導流管配合構成二流體結構將靶材熔液霧化，成型的金屬顆粒被高速氣流加速后撞擊靶材襯底并沉積在上面，形成靶材，生產效率高，生產工序少，靶材原料利用率高。

技術領域

本申請靶材生產設備技術領域，尤其是涉及一種氣霧化法直接制備噴涂靶材的裝置。

背景技術

在噴涂靶材生產中，目前噴涂靶材常用的制備方法是先通過氣霧化制粉法將金屬原料制成金屬或者合金粉末，然后將制得的粉末通過篩分法對粉末進行分級，再將適合粒徑的粉末用等冷噴涂、等離子噴涂或者其它式將材料在襯底上成型。在整個靶材生產過程中生產步驟多，工序復雜，造成生產周期長，成本高。多工序生產容易引入污染物，較難管控靶材中雜質元素含量。靶材噴涂可用的粉末粒徑范圍小(冷噴涂一般采用30μm-100μm粒徑范圍，等離子噴涂一般采用20μm-200μm粒徑范圍粉末)，粉末沉積率低(冷噴涂沉積率一般在50％-70％，等離子噴涂沉積率70％-85％)，噴涂會造成大量粉末浪費，靶材生產成本高。

發明內容

為了彌補上述靶材生產中的不足，本申請提出一種靶材制作裝置。

其技術方案為：一種靶材制作裝置，包括熔煉室和設置在所述熔煉室一側的霧化室，

所述熔煉室設有導流管，所述導流管一端由熔煉室通入熔融的靶材原料，所述導流管另一端延伸到霧化室內，所述霧化室內固設有靶材固定件，所述導流管朝向所述靶材固定件方向，所述導流管外側套設有霧化噴盤，所述霧化噴盤與外界惰性氣體氣源連通。

本申請中，采用霧化噴盤與導流管配合構成二流體結構將靶材熔液霧化，成型的金屬顆粒被高速氣流加速后撞擊靶材襯底并沉積在上面，形成靶材，生產效率高，生產工序少，靶材原料利用率高。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例的技術方案，下面將對本申請實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲取其他的附圖。

圖1為本申請的一種實施方式的結構示意圖；

圖2為本申請的導流管與霧化噴盤的一種實施方式的結構示意圖；

圖3為本申請的靶材固定件的一種實施方式的結構示意圖。

具體實施方式