[實用新型]一種硅片清洗設備

有效

• 申請號: 201920582714.6
• 申請日: 2019-04-25
• 公開（公告）號: CN209691736U
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 石堅;朱棣;李杰;于友;劉世偉
• 申請（專利權）人: 山東九思新材料科技有限責任公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/67;B08B3/02;B08B1/04
• 代理公司: 37249 濟南舜昊專利代理事務所(特殊普通合伙)
• 代理人: 鐘文強<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.一種硅片清洗設備，包括機架(1)和物料盤(22)，所述機架(1)上設置有沖洗腔(2)和下料腔(4)，所述沖洗腔(2)的頂部安裝有清潔架(3)，所述清潔架(3)上傾斜安裝有噴淋頭(32)，所述噴淋頭(32)外接進水管(31)，所述清潔架(3)的底部架設有清潔網板(21)，其特征在于，所述清潔網板(21)通過活動軸(25)安裝在機架(1)上，所述物料盤(22)內設置有若干道放置槽(26)，所述放置槽(26)的底板為鏤空網結構，所述物料盤(22)架設在清潔網板(21)上，所述下料腔(4)位于有沖洗腔(2)的正下方，所述下料腔(4)與沖洗腔(2)之間通過清潔網板(21)相分隔，所述下料腔(4)側邊豎向架設有傳動螺桿(41)，所述傳動螺桿(41)上套設有傳動套(42)，所述清潔網板(21)的側邊安裝有銜接座(44)，所述傳動套(42)與銜接座(44)之間通過拉桿(43)相連接，所述機架(1)的底部架設有傳動電機(47)，所述傳動螺桿(41)安裝在傳動電機(47)的驅動端。

2.根據權利要求1所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述沖洗腔(2)內設置有擋板(23)，所述擋板(23)架設于物料盤(22)后側。

3.根據權利要求1所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述物料盤(22)的底部四邊區域設置有卡槽(24)，所述物料盤(22)通過卡槽(24)蓋合在清潔網板(21)上。

4.根據權利要求1所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述下料腔(4)側板面上設置有限位軌(46)，所述傳動套(42)上連接安裝有限位塊(45)，所述限位塊(45)卡合在限位軌(46)內。

5.根據權利要求1-4任一所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述機架(1)的底板上設置有滑軌(11)，所述滑軌(11)上安裝有擦拭架(5)，所述擦拭架(5)的前端安裝有前置架(51)，所述前置架(51)上安裝有伸縮桿(52)，所述伸縮桿(52)的固定端通過活動柱(53)安裝在前置架(51)上，所述伸縮桿(52)的活動端安裝有固定架(54)，所述固定架(54)上通過輥軸安裝有滾動擦(55)。

6.根據權利要求5所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述擦拭架(5)的后側安裝有驅動電機(59)，所述驅動電機(59)的驅動端安裝有傳動盤(61)，所述傳動盤(61)的外盤面邊緣安裝有鎖合栓(62)，所述擦拭架(5)中間位置架設有豎向導軌(56)，所述豎向導軌(56)的軌道槽內安裝有滑塊(57)，所述滑塊(57)通過第一傳動桿(58)與固定架(54)相連接，所述滑塊(57)通過第二傳動桿(63)與鎖合栓(62)相連接。