[實用新型]一種硅片清洗設備

有效

• 申請號: 201920582714.6
• 申請日: 2019-04-25
• 公開（公告）號: CN209691736U
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 石堅;朱棣;李杰;于友;劉世偉
• 申請（專利權）人: 山東九思新材料科技有限責任公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/67;B08B3/02;B08B1/04
• 代理公司: 37249 濟南舜昊專利代理事務所(特殊普通合伙)
• 代理人: 鐘文強<國際申請>=<國際公布>=<進入

本實用新型涉及硅片加工技術領域，具體是一種硅片清洗設備，包括機架和物料盤，所述機架上設置有沖洗腔和下料腔，所述沖洗腔的頂部安裝有清潔架，所述清潔架上傾斜安裝有噴淋頭，所述噴淋頭外接進水管，所述清潔架的底部架設有清潔網板，所述清潔網板通過活動軸安裝在機架上，所述物料盤內設置有若干道放置槽，所述物料盤架設在清潔網板上，所述下料腔與沖洗腔之間通過清潔網板相分隔，所述下料腔側邊豎向架設有傳動螺桿，所述傳動螺桿上套設有傳動套，所述清潔網板的側邊安裝有銜接座，所述傳動套與銜接座之間通過拉桿相連接。本申請作業方便，便于周轉，能夠有效與整個硅片工藝流程相對接。

技術領域

本實用新型涉及硅片加工技術領域，具體是一種硅片清洗設備。

背景技術

硅片清洗是半導體制造中最重要、最頻繁的的步驟之一。半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗，清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面，會導致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學清洗兩種?；瘜W清洗時，一般將硅片垂直放置，保證硅片的清洗質量。現有技術中，對于硅片清洗大多數企業使用的是將硅片放入清洗液中進行侵泡，靜止侵泡清洗效率低并且質量差。

中國專利(授權公告號：CN208357349U)公布了一種新型硅片清洗裝置，能夠通過旋轉電機帶動硅片存放裝置內的硅片進行旋轉清潔，但是作業時存在一定的缺陷，該專利密封箱整體間接式震動，雖然能夠提高清潔效果，但是存在硅片損傷的風險，同時該專利與現在有浸泡作業方式類似，清潔后難以有效收集硅片，不便于后續風干清潔液。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種硅片清洗設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種硅片清洗設備，包括機架和物料盤，所述機架上設置有沖洗腔和下料腔，所述沖洗腔的頂部安裝有清潔架，所述清潔架上傾斜安裝有噴淋頭，所述噴淋頭外接進水管，所述清潔架的底部架設有清潔網板，所述清潔網板通過活動軸安裝在機架上，所述物料盤內設置有若干道放置槽，所述放置槽的底板為鏤空網結構，所述物料盤架設在清潔網板上，所述下料腔位于有沖洗腔的正下方，所述下料腔與沖洗腔之間通過清潔網板相分隔，所述下料腔側邊豎向架設有傳動螺桿，所述傳動螺桿上套設有傳動套，所述清潔網板的側邊安裝有銜接座，所述傳動套與銜接座之間通過拉桿相連接，所述機架的底部架設有傳動電機，所述傳動螺桿安裝在傳動電機的驅動端。

作為本實用新型進一步的方案：所述沖洗腔內設置有擋板，所述擋板架設于物料盤后側。

作為本實用新型進一步的方案：所述物料盤的底部四邊區域設置有卡槽，所述物料盤通過卡槽蓋合在清潔網板上。

作為本實用新型進一步的方案：所述下料腔側板面上設置有限位軌，所述傳動套上連接安裝有限位塊，所述限位塊卡合在限位軌內。

作為本實用新型進一步的方案：所述機架的底板上設置有滑軌，所述滑軌上安裝有擦拭架，所述擦拭架的前端安裝有前置架，所述前置架上安裝有伸縮桿，所述伸縮桿的固定端通過活動柱安裝在前置架上，所述伸縮桿的活動端安裝有固定架，所述固定架上通過輥軸安裝有滾動擦。

作為本實用新型再進一步的方案：所述擦拭架的后側安裝有驅動電機，所述驅動電機的驅動端安裝有傳動盤，所述傳動盤的外盤面邊緣安裝有鎖合栓，所述擦拭架中間位置架設有豎向導軌，所述豎向導軌的軌道槽內安裝有滑塊，所述滑塊通過第一傳動桿與固定架相連接，所述滑塊通過第二傳動桿與鎖合栓相連接。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

一.本申請采用物料盤承載硅片，為了便于硅片的收集，便于整個硅片相關作業流程的周轉。承載機構均為漏空網設計的，從而不會存在積水狀況。