[實用新型]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201920580555.6
• 申請日: 2019-04-25
• 公開（公告）號: CN209804606U
• 公開（公告）日: 2019-12-17
• 發明（設計）人: 天野嘉文;東島治郎;伊藤優樹;岡本英一郎
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 11332 北京品源專利代理有限公司
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

基板保持部，其將基板保持為水平；

旋轉驅動機構，其與所述基板保持部連接，使所述基板保持部繞鉛垂軸線旋轉；

處理液噴嘴，其設置于所述基板保持部的上方，向所述基板保持部所保持的基板的上表面的邊緣部供給處理液；

杯體，其設置成包圍所述基板保持部所保持的基板的周圍，將從所述基板向外方飛散的處理液回收；

排氣口，其設于所述杯體的底面，對所述杯體的內部空間進行抽吸；以及

覆蓋部件，其呈環狀，具有下表面和內周面，其中，

所述覆蓋部件覆蓋所述基板保持部所保持的基板的上表面的邊緣部，而比該邊緣部靠徑向內側的基板中央部未被所述覆蓋部件覆蓋而顯露，

所述覆蓋部件的所述內周面的下部的內徑向下方逐漸變大，

所述覆蓋部件的所述下表面與所述基板保持部所保持的基板的上表面的邊緣部之間形成有間隙，在對所述杯體的內部空間進行排氣時，在所述杯體的所述內部空間的上方存在的氣體，從覆蓋部件的所述內周面所包圍的空間，穿過所述間隙，被導入至所述杯體的內部空間。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述覆蓋部件的所述內周面的下端部與所述下表面的內周部以曲面連接。

3.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述覆蓋部件的所述下表面的內周緣位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠內側的位置，所述覆蓋部件的所述下表面的外周緣位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠外側的位置。

4.根據權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述覆蓋部件的所述下表面的內周緣，位于比所述基板保持部所保持的基板的所述邊緣部的內周緣靠內側的位置。

5.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述間隙的開口面積比所述排氣口的面積大。

6.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述杯體具有供所述覆蓋部件的下部插入的上部開口部，在所述杯體的形成所述上部開口部的壁體上設有向下方延伸的彎折部。

7.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

基板保持部，其將基板保持為水平；

旋轉驅動機構，其與所述基板保持部連接，使所述基板保持部繞鉛垂軸線旋轉；

處理液噴嘴，其設置于所述基板保持部的上方，向所述基板保持部所保持的基板的上表面的邊緣部供給處理液；

杯體，其設置成包圍所述基板保持部所保持的基板的周圍，將從所述基板向外方飛散的處理液回收；

排氣口，其設于所述杯體的底面，對所述杯體的內部空間進行抽吸；以及

覆蓋部件，其呈環狀，具有下表面和內周面，其中，

所述覆蓋部件覆蓋所述基板保持部所保持的基板的上表面的邊緣部，而比該邊緣部靠徑向內側的基板中央部未被所述覆蓋部件覆蓋而顯露，

所述覆蓋部件的所述下表面的內周緣位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠內側的位置，所述覆蓋部件的所述下表面的外周緣位于比所述基板保持部所保持的基板的外周端靠外側的位置，

所述覆蓋部件的所述下表面與所述基板保持部所保持的基板的上表面的邊緣部之間形成有間隙，在對所述杯體的內部空間進行排氣時，在所述杯體的所述內部空間的上方存在的氣體，從覆蓋部件的所述內周面所包圍的空間，穿過所述間隙，被導入至所述杯體的內部空間。