[實用新型]單銀low-e中空玻璃磁控濺射鍍膜機有效
| 申請號: | 201920563222.2 | 申請日: | 2019-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN210367889U | 公開(公告)日: | 2020-04-21 |
| 發明(設計)人: | 郭博;郭亞霓;郭超 | 申請(專利權)人: | 江陰沐祥節能裝飾工程有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/24;C23C14/18 |
| 代理公司: | 江陰義海知識產權代理事務所(普通合伙) 32247 | 代理人: | 王威欽 |
| 地址: | 214400 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | low 中空玻璃 磁控濺射 鍍膜 | ||
1.單銀low-e中空玻璃磁控濺射鍍膜機,其特征在于,包括機臺、設置在機臺上的真空室,真空室其上部設置至少二十個陰極靶,與真空室連接設有呈波紋管形式的抽氣管,抽氣管的另一端與分子泵相連,分子泵通過呈波紋管形式的連接管與羅茨泵相連;真空室底部中心位置轉動設有樣品臺,樣品臺下部設有加熱源;真空室底板上固定連接有至少三塊蒸鍍膜收集板,蒸鍍膜收集板上固定連接加熱隔板。
2.根據權利要求1所述的單銀low-e中空玻璃磁控濺射鍍膜機,其特征在于,所述陰極靶數量為二十至二十五個;所述樣品臺及蒸鍍膜收集板采用塞鋼制成。
3.根據權利要求2所述的單銀low-e中空玻璃磁控濺射鍍膜機,其特征在于,所述蒸鍍膜收集板呈角鋼狀,加熱隔板豎直設置;所述加熱源為內置加熱絲的加熱盤,加熱隔板內設置加熱絲;抽氣管及連接管上設置截止閥或氣動插板閥。
4.根據權利要求3所述的單銀low-e中空玻璃磁控濺射鍍膜機,其特征在于,所述樣品臺的數量與蒸鍍膜收集板的數量相同;羅茨泵、分子泵、真空室的外表面均設置有標識層;真空室其外表面固定設置驅動電機及減速機,驅動電機與減速機相連,減速機的輸出軸與齒輪齒條機構相連,樣品臺的轉軸上固定連接有與齒輪齒條機構相連的輔助齒輪;驅動電機的外表面也設置有標識層,羅茨泵、分子泵、真空室及驅動電機上的標識層其標識不同。
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