[實用新型]一種用于碳化硅爐爐腔壓力控制的控壓裝置有效
| 申請號: | 201920537661.6 | 申請日: | 2019-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN210089430U | 公開(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發明(設計)人: | 胡建榮;高宇;倪軍夫;董熔成;石明智;陳吉;傅林堅;曹建偉;李歡 | 申請(專利權)人: | 浙江晶盛機電股份有限公司 |
| 主分類號: | F27D19/00 | 分類號: | F27D19/00;F27D7/06 |
| 代理公司: | 杭州中成專利事務所有限公司 33212 | 代理人: | 周世駿 |
| 地址: | 312300 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 碳化硅 爐爐腔 壓力 控制 裝置 | ||
本實用新型涉及一種壓力裝置,尤其涉及一種用于碳化硅爐爐腔壓力控制的控壓裝置。包括碳化硅爐腔體,碳化硅爐腔體設有腔體進氣口與腔體出氣口;腔體出氣口與主真空管路一端相連;主真空管路另一端與真空泵相連;主真空管路上設有真空閥與旁路支路;旁路支路為若干并聯的控壓支路,各個控壓支路上均設有真空閥;控壓支路直徑小于主真空管路,且各個控壓支路的直徑各不相等。本實用新型由于該裝置存在幾路不同大小的管徑,使得通氣量具有可調性,因此可根據實際的使用經驗改進管徑大小及數量,因此配合真空泵變頻使得腔體內部壓力在惰性氣體的充入和抽吸過程中容易達到平衡。
技術領域
本實用新型涉及一種壓力裝置,尤其涉及一種用于碳化硅爐爐腔壓力控制的控壓裝置。
背景技術
在生長碳化硅晶體時需要持續不斷地向碳化硅爐的腔體內部充入惰性氣體,同時必須保證腔體內部壓力恒定,而在晶體生長的不同階段,對于爐腔壓力的需求也有很大不同,而且控壓精度要求也很高,不允許有較大波動。由于腔體內部的封閉性及須與大氣隔離,因此必須通過一種特有的裝置來排出多余的惰性氣體。目前普遍通過特制的真空閥來保持壓力平衡,但這些特制的真空閥價格昂貴調節困難且精度難以達到技術要求。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是,克服現有技術中的不足,提供一種用于碳化硅爐爐腔壓力控制的控壓裝置。
為解決上述技術問題,本實用新型采用的解決方案是:
提供一種用于碳化硅爐爐腔壓力控制的控壓裝置,包括碳化硅爐腔體,碳化硅爐腔體設有腔體進氣口與腔體出氣口;腔體出氣口與主真空管路一端相連;
主真空管路另一端與真空泵相連;主真空管路上設有真空閥與旁路支路;
旁路支路為若干并聯的控壓支路,各個控壓支路上均設有真空閥;控壓支路直徑小于主真空管路,且各個控壓支路的直徑各不相等。
作為一種改進,控壓支路有三個。
作為一種改進,每個控壓支路上設有一個真空閥。
與現有技術相比,本實用新型的技術效果是:
該控壓裝置在惰性氣體充入腔體,同時該支路某一分支打開,真空泵開始抽吸腔體內惰性氣體,主真空管道大型真空閥關閉的過程中起作用。由于該裝置存在幾路不同大小的管徑,使得通氣量具有可調性,因此可根據實際的使用經驗改進管徑大小及數量,因此配合真空泵變頻使得腔體內部壓力在惰性氣體的充入和抽吸過程中容易達到平衡。
附圖說明
圖1為本實用新型的一種優選實施例的整體結構示意圖。
其中的附圖標記為:
1-腔體進氣口,2-碳化硅爐腔體,3、11-主真空管路,4-第一控壓管路支路,5-第二控壓管路支路,6-第三控壓管路支路,7-第三真空閥,8-第二真空閥,9-第一真空閥,10-真空泵,12-第四真空閥。
具體實施方式
下面結合附圖和具體實施方式,進一步闡明本實用新型。在閱讀了本實用新型之后,其他技術人員對本發明的各種等價形式的修改均屬于本申請所附權利要求所限定的范圍。
實施例1
如圖1所示,一種用于碳化硅爐爐腔壓力控制的控壓裝置,包括碳化硅爐腔體1,碳化硅爐腔體1設有腔體進氣口1與腔體出氣口;腔體出氣口與主真空管路3、11一端相連;主真空管路3、11另一端連接真空泵10。主真空管路3、11上設有第四真空閥12與旁路支路;
旁路支路為三個的控壓支路,分別為第一控壓管路支路4、第二控壓管路支路5、第三控壓管路支路6;第一控壓管路支路4、第二控壓管路支路5、第三控壓管路支路6上分別設有第一真空閥9、第二真空閥8、第三真空閥7。
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