[實用新型]一種光刻用真空基片夾具有效
| 申請號: | 201920525407.4 | 申請日: | 2019-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN209928209U | 公開(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發明(設計)人: | 閆青芝;曲迪;陳墨;白國人;靳春艷 | 申請(專利權)人: | 天津華慧芯科技集團有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 12101 天津市鼎和專利商標代理有限公司 | 代理人: | 許愛文 |
| 地址: | 300467 天津市濱海新區生態城*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 載物臺 真空吸附結構 真空吸盤 真空孔 真空管 基片夾具 夾具 半導體制備 本實用新型 載物臺平面 根部中心 基片位置 緊密貼合 一機多用 配套的 相接處 真空槽 總開關 光刻 通孔 吸附 密封 投影 覆蓋 | ||
本實用新型公開了一種光刻用真空基片夾具,涉及半導體制備技術領域,包括一個可與基片緊密貼合的真空載物臺;載物臺內設有N組真空吸附結構;真空吸附結構在載物臺平面上的投影面積小于待吸附基片的面積;真空吸附結構包括沿真空載物臺厚度方向設置的M個真空孔,真空孔為通孔;相鄰的真空孔之間通過設在真空載物臺內部的真空槽相連通;載物臺底部設有與真空吸附結構配套的N個真空吸盤;真空吸附結構的底部被對應的真空吸盤覆蓋;真空吸盤與載物臺相接處密封;每個真空吸盤的根部中心設有一根真空管,N個真空管由設在末端的一個共同的真空總開關控制。該基片夾具不僅便于調整基片位置、且能夠一機多用,提高夾具利用率、降低成本。
技術領域
本實用新型涉及半導體制備技術領域,特別地,涉及到一種光刻用真空基片夾具。
背景技術
在半導體制造中,芯片的制作一般都要對基片采用光刻技術;用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜板(也稱作光刻板),其作用是:在基片上選定的區域中對一個不透明的圖形模板遮蓋,繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選定的區域以外的區域。
但是目前的實驗和生產中,一旦遇到特殊形狀和尺寸的基片,而掩膜版的位置又不能調整時,就需要通過調整夾具來調整基片的位置,或者按照需求定制特殊的基片夾具。但定制的基片夾具通常是一對一的設計(即一種夾具對應一種形狀或尺寸的基片),不同的基片要制作多種夾具、耗時耗財、并且利用率不高;而且通常的基片夾具均為機械硬性夾持方法,存在損傷基片的可能性。
實用新型內容
本實用新型針對現有技術中存在的上述技術問題,提供了一種結構簡單合理的光刻用真空基片夾具。該夾具不僅便于調整基片位置、而且能夠一機多用,提高夾具利用率、降低成本。
本實用新型為解決公知技術中存在的技術問題所采取的技術方案是:
一種光刻用真空基片夾具,包括一個與基片貼合的真空載物臺;所述載物臺內設有N組真空吸附結構,N為自然數且N≧1;真空吸附結構在載物臺平面上的投影面積小于待吸附基片的面積;
每組所述真空吸附結構包括沿真空載物臺厚度方向設置的M個真空孔,M為自然數且M≧1;所述真空孔為通孔;相鄰的真空孔之間通過設在真空載物臺內部的真空槽相連通;
所述載物臺底部設有與真空吸附結構配套的N個真空吸盤;真空吸盤覆蓋真空吸附結構的底部;真空吸盤與載物臺相接處密封;
每個所述真空吸盤的根部中心設有一根與真空吸附結構連通的真空管,N個真空管與設在末端的一個共同的真空總開關連接。
進一步,每個真空管上設有一個控制該管工作狀態的真空分開關。
進一步,N組真空吸附結構在載物臺上的投影面積大小不等。
進一步,M=3。
更進一步,3個所述真空孔呈等邊三角形排列,待吸附基片的中心與該等邊三角形的中心重合。
本實用新型具有的優點和積極效果是:
本實用新型的真空基片夾具結構簡單合理易操作,可以滿足同一個載物臺對不同大小和形狀基片的固定,可以高效的進行光刻操作;而且真空吸附的方法對基片不會造成損傷,相較于機械夾具的硬性接觸,本實用新型利于提高成品芯片的合格率;而且能夠一機多用、提高夾具利用率、避免了定制特殊夾具造成的成本浪費。真空分開關的設置可以滿足對各個真空吸附結構有選擇的開啟。
附圖說明:
圖1是本實用新型優選實施例中真空基片夾具的示意圖。
其中:1、載物臺;11、真空孔;12、真空槽;2、真空吸盤;3、真空管;4、真空總開關;5、真空分開關;6、基片。
具體實施方式
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