[實用新型]一種車用整流二極管堿刻蝕裝置有效
| 申請號: | 201920518905.6 | 申請日: | 2019-04-16 |
| 公開(公告)號: | CN209487477U | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發明(設計)人: | 宋國華;曹榆 | 申請(專利權)人: | 江蘇英達富電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/306;H01L29/861 |
| 代理公司: | 北京輕創知識產權代理有限公司 11212 | 代理人: | 潘云峰 |
| 地址: | 225000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 車用整流二極管 升降機構 槽體 本實用新型 間隔安裝 刻蝕裝置 位移機構 間隔設置 抓取機構 堿洗 | ||
1.一種車用整流二極管堿刻蝕裝置,其特征在于,包括機架、多個升降機構,所述機架上方安裝有位移機構,所述位移機構下方安裝有抓取機構,所述機架內部間隔安裝有多個槽體,所述槽體間隔設置,所述升降機構間隔安裝機架下方,且每個所述升降機構對應一個所述槽體。
2.根據權利要求1所述一種車用整流二極管堿刻蝕裝置,其特征在于,所述位移機構包括齒條、齒輪、減速電機和支架,所述齒條間隔安裝在機架上方,且齒條上配合安裝有齒輪,所述齒輪中部安裝有轉軸,所述轉軸與減速電機的輸出端連接,所述支架上方與所述轉軸連接,下方安裝有抓取機構。
3.根據權利要求2所述一種車用整流二極管堿刻蝕裝置,其特征在于,所述抓取機構包括抓取氣缸、立柱、支撐板和抓鉤,所述抓取氣缸安裝在所述支架下方,所述立柱間隔安裝在支架下方,且立柱上滑動安裝有支撐板,所述立柱位于所述抓取氣缸的四周,所述抓取氣缸下方的輸出端與所述支撐板連接,所述支撐板下方安裝有抓鉤。
4.根據權利要求3所述的一種車用整流二極管堿刻蝕裝置,其特征在于,所述升降機構包括升降氣缸、升降板和升降桿組,所述升降氣缸安裝機架內部,且升降氣缸位于所述槽體下方,所述升降氣缸上方的輸出端安裝有升降板,所述升降板上間隔安裝有兩個升降桿組,所述升降桿組上方安裝有連接板,且升降桿組位于所述槽體兩側,所述連接板上方開設有凹槽。
5.根據權利要求4所述的一種車用整流二極管堿刻蝕裝置,其特征在于,每個所述升降桿組包括兩根升降桿,所述升降桿間隔設置,且升降桿上方連接有所述連接板。
6.根據權利要求5所述的一種車用整流二極管堿刻蝕裝置,其特征在于,每個所述槽體內部設置有偏移頂桿,所述偏移頂桿水平設置,且偏移頂桿的中心線和齒條的中心線相互垂直。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





