[實用新型]清洗裝置

有效

• 申請號: 201920511429.5
• 申請日: 2019-04-16
• 公開（公告）號: CN210115294U
• 公開（公告）日: 2020-02-28
• 發明（設計）人: 何勇;周劍
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B3/02
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 陳金普;周玲

本實用新型涉及一種清洗裝置，包括：成對設置的二流體噴頭，水箱和壓縮空氣裝置；二流體噴頭的第一入口與水箱的出水口連通，二流體噴頭的第二入口用于與壓縮空氣裝置的出氣口連通；每對二流體噴頭分別位于基板的兩側，且各二流體噴頭用于將壓縮空氣和水的混合物噴射在對應側經過顯影處理后的基板端面周圍，清洗基板的兩個端面邊緣處的薄膜。通過采用本實用新型實施例提供的清洗裝置，能夠實現對基本邊沿剝落的薄膜進行清除，保證面板的品質。

技術領域

本實用新型涉及顯示領域，特別是涉及一種清洗裝置。

背景技術

這里的陳述僅提供與本申請有關的背景信息，而不必然地構成現有技術。

在基板的黃光制程中，在經過顯影液的處理后，需要對蝕刻區域的保護膜進行去除，在蝕刻時，單位面積接觸化學溶液的液滴量越大，則該單位面積的基板側蝕越嚴重，且由于薄膜部鍍在基板邊沿的金屬膜的密度無法保證，尤其是邊緣部分蝕刻容易不均勻。

傳統技術常采用水刀對顯影基板表面進行沖洗，清洗后的基板常會殘留一些薄膜，尤其是基板周圍邊緣的薄膜殘留嚴重，影響產品的良率。

實用新型內容

基于此，有必要針對黃光制程中基板邊沿的剝落殘留問題，提供一種清洗裝置。

一種清洗裝置，包括：成對設置的二流體噴頭，水箱和壓縮空氣裝置；

二流體噴頭的第一入口與水箱的出水口連通，二流體噴頭的第二入口與壓縮空氣裝置的出氣口連通；

每對二流體噴頭分別位于基板的兩側，且各二流體噴頭用于將壓縮空氣和水的混合物噴射在對應側經過顯影處理后的基板端面周圍，清洗基板的兩個端面邊緣處的薄膜。

在其中一個實施例中，清洗裝置還包括相鄰設置的清洗氣刀和水刀；水刀的進水口與水箱的出水口連通，且水刀用于在二流體噴頭清洗邊緣前，向經過第一工作區域的基板端面噴射水；第一工作區域為所述水刀清洗基板的作業區域；

清洗氣刀的進氣口與壓縮空氣裝置的出氣口連通，清洗氣刀的出氣口噴出壓縮空氣，對基板進行吹掃。

在其中一個實施例中，清洗裝置還包括承載座和排水裝置，承載座用于承載基板；

二流體噴頭清洗基板后的廢水沿承載座上設置的導水槽和/或通孔流至排水裝置。

在其中一個實施例中，清洗裝置還包括傳送裝置，傳送裝置設置在承載座上，傳送裝置用于帶動基板沿傳送方向運動，使每一對二流體噴頭的出口對著基板端面的周圍。

在其中一個實施例中，清洗裝置還包括導軌，導軌設置在承載座上；

傳送裝置包括載物板和滑輪，載物板與滑輪機械連接；

載物板用于放置和固定基板；

滑輪與導軌匹配；用于在導軌上滑動。

在其中一個實施例中，清洗裝置還包括阻隔氣刀，阻隔氣刀的進氣口與壓縮空氣裝置的出氣口連通，阻隔氣刀的出氣口噴射壓縮空氣形成氣簾，隔絕相鄰的兩個工作區域，其中相鄰的兩個工作區域是指相鄰工序的兩個間隔工作區域。

在其中一個實施例中，阻隔氣刀包括第一阻隔氣刀，第一阻隔氣刀設置在第一工作區域與第二工作區域的間隔處，其中，第二工作區域為二流體噴頭清洗基板的作業區域。

在其中一個實施例中，清洗裝置還包括去離子水清洗噴頭和去離子裝置，去離子裝置用于輸出去離子水至去離子水清洗噴頭；去離子水清洗噴頭用于噴射去離子水在經二流體噴頭清洗后的基板端面。

在其中一個實施例中，清洗裝置還包括干燥噴頭，干燥噴頭的進風口與壓縮空氣裝置的出氣口連通，干燥噴頭的出氣口對著去離子水清洗后的基板端面噴射干燥的壓縮空氣。