[實用新型]清洗裝置

有效

• 申請號: 201920511429.5
• 申請日: 2019-04-16
• 公開（公告）號: CN210115294U
• 公開（公告）日: 2020-02-28
• 發明（設計）人: 何勇;周劍
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B3/02
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 陳金普;周玲

1.一種清洗裝置，其特征在于，包括：成對設置的二流體噴頭，水箱和壓縮空氣裝置；

所述二流體噴頭的第一入口與所述水箱的出水口連通，所述二流體噴頭的第二入口用于與所述壓縮空氣裝置的出氣口連通；

每對所述二流體噴頭分別位于基板的兩側，且各所述二流體噴頭用于將壓縮空氣和水的混合物噴射在對應側經過顯影處理后的基板端面周圍，清洗所述基板的兩個端面邊緣處的薄膜。

2.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，還包括相鄰設置的清洗氣刀和水刀；所述水刀的進水口與所述水箱的出水口連通，且所述水刀用于所述二流體噴頭清洗邊緣前，向經過第一工作區域的所述基板端面噴射水；所述第一工作區域為所述水刀清洗所述基板的作業區域；

所述清洗氣刀的進氣口與所述壓縮空氣裝置的出氣口連通，所述清洗氣刀的出氣口噴出壓縮空氣，對所述基板進行吹掃。

3.根據權利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，還包括承載座和排水裝置，所述承載座用于承載所述基板；

所述二流體噴頭清洗所述基板后的廢水沿所述承載座上設置的導水槽和/或通孔流至所述排水裝置。

4.根據權利要求3所述的清洗裝置，其特征在于，還包括傳送裝置，所述傳送裝置設置在所述承載座上，所述傳送裝置用于帶動所述基板沿傳送方向運動，使所述每一對二流體噴頭的出口對著所述基板端面的周圍。

5.根據權利要求4所述的清洗裝置，其特征在于，還包括導軌，所述導軌設置在所述承載座上；

所述傳送裝置包括載物板和滑輪，所述載物板與所述滑輪機械連接；

所述載物板用于放置和固定所述基板；

所述滑輪與所述導軌匹配；用于在所述導軌上滑動。

6.根據權利要求2-5中任一項所述的清洗裝置，其特征在于，還包括阻隔氣刀，所述阻隔氣刀的進氣口與所述壓縮空氣裝置的出氣口連通，所述阻隔氣刀的出氣口噴射壓縮空氣形成氣簾，隔絕相鄰的兩個工作區域，其中相鄰的兩個工作區域是指相鄰工序的兩個間隔工作區域。

7.根據權利要求6所述的清洗裝置，其特征在于，所述阻隔氣刀包括第一阻隔氣刀，所述第一阻隔氣刀設置在所述第一工作區域與第二工作區域的間隔處，其中，所述第二工作區域為所述二流體噴頭清洗所述基板的作業區域。

8.根據權利要求1或2或3或4或5或7所述的清洗裝置，其特征在于，還包括去離子水清洗噴頭和去離子裝置，所述去離子裝置用于輸出去離子水至所述去離子水清洗噴頭；所述去離子水清洗噴頭用于噴射去離子水在經所述二流體噴頭清洗后的基板端面。

9.根據權利要求8所述的清洗裝置，其特征在于，還包括干燥噴頭，所述干燥噴頭的進風口與所述壓縮空氣裝置的出氣口連通，所述干燥噴頭的出氣口對著所述去離子水清洗后的基板端面噴射干燥的壓縮空氣。

10.根據權利要求1或2或3或4或5或7或9所述的清洗裝置，其特征在于，所述二流體噴頭設置在距離所述基板的邊沿5mm至15mm處。