[實(shí)用新型]VOC光催化處理系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920466066.8
• 申請(qǐng)日: 2019-04-08
• 公開（公告）號(hào): CN210131535U
• 公開（公告）日: 2020-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 易爭(zhēng)明;吳際峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湘潭大學(xué)
• 主分類號(hào): B01D53/86
• 分類號(hào): B01D53/86;B01D53/90;B01D53/96;B01D53/44
• 代理公司: 深圳市中原力和專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44289
• 代理人: 胡國(guó)良

本實(shí)用新型提供了一種VOC光催化處理系統(tǒng)。所述VOC光催化處理系統(tǒng)包括催化處理裝置、沉淀裝置、管路、混合裝置及循環(huán)裝置，所述沉淀裝置包括位于所述催化處理裝置下方的第一沉淀區(qū)，位于所述循環(huán)裝置下方的第二沉淀區(qū)以及位于所述第一沉淀區(qū)和所述第二沉淀區(qū)之間的澄清區(qū)，所述管路包括第一管路、第二管路、第三管路及第四管路，所述第一管路連通所述第一沉淀區(qū)和所述混合裝置，所述第二管路連通所述澄清區(qū)和所述混合裝置，所述第三管連通所述混合裝置和所述循環(huán)裝置，所述第四管路連通所述第二沉淀區(qū)和所述催化處理裝置。與相關(guān)技術(shù)相比，本實(shí)用新型的提供的VOC光催化處理系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)催化劑的循環(huán)利用。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本實(shí)用新型涉及有機(jī)廢氣處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種VOC光催化處理系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】

工業(yè)生產(chǎn)中，特別是印刷行業(yè)，生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢氣包括大量的揮發(fā)性有機(jī)物(Volatile organic compounds，VOC)，通過承印材料的表面散發(fā)，未經(jīng)過任何處理通過管道向車間外排放，造成對(duì)大氣環(huán)境的嚴(yán)重污染。

相關(guān)技術(shù)中，有機(jī)廢氣處理一般選自活性炭吸附、溶液吸收回收法、冷凝回收法、燃燒氧化法等，但是上述方法的處理過程中，需要消耗大量的原材料，不能滿足低能耗的需求。

因此，有必要提供一種新的VOC光催化處理系統(tǒng)來解決上述問題。

【實(shí)用新型內(nèi)容】

本實(shí)用新型的目的在于提供了一種節(jié)約資源，同時(shí)凈化效果良好的VOC光催化處理系統(tǒng)。

本實(shí)用新型提供一種VOC光催化處理系統(tǒng)，包括催化處理裝置、沉淀裝置、管路、混合裝置及循環(huán)裝置，所述催化處理裝置和所述循環(huán)裝置安裝于所述沉淀裝置的上方并相互間隔，所述沉淀裝置被分隔成位于所述催化處理裝置下方的第一沉淀區(qū)、位于所述循環(huán)裝置下方的第二沉淀區(qū)以及位于所述第一沉淀區(qū)和所述第二沉淀區(qū)之間的澄清區(qū)，所述管路包括第一管路、第二管路、第三管路及第四管路，所述第一管路連通所述第一沉淀區(qū)和所述混合裝置，所述第二管路連通所述澄清區(qū)和所述混合裝置，所述第三管連通所述混合裝置和所述循環(huán)裝置，所述第四管路連通所述第二沉淀區(qū)和所述催化處理裝置，廢氣自所述催化處理裝置進(jìn)入，由所述循環(huán)裝置排出。

優(yōu)選的，所述催化處理裝置包括具有進(jìn)氣口的第一殼體、收容于所述第一殼體內(nèi)的第一噴嘴及與所述第一噴嘴間隔設(shè)置的催化光源，廢氣由所述進(jìn)氣口進(jìn)入，所述第一噴嘴與所述第四管路連通，用于淋噴處理液，所述處理液中包括催化劑。

優(yōu)選的，所述第一噴嘴的設(shè)置方向與氣體的運(yùn)動(dòng)方向相反，所述催化劑為TiO₂。

優(yōu)選的，所述沉淀裝置包括頂壁、與所述頂壁相對(duì)設(shè)置的底壁以及連接所述頂壁和所述底壁的側(cè)壁，所述頂壁、所述底壁及所述側(cè)壁配合形成容納空間，所述催化處理裝置和所述循環(huán)裝置安裝于所述頂壁。

優(yōu)選的，所述沉淀裝置還包括固定于所述底壁并相互間隔設(shè)置的兩個(gè)隔板，所述隔板的高度小于所述側(cè)壁的高度，兩個(gè)所述隔板將所述容納空間分隔形成所述第一沉淀區(qū)、所述澄清區(qū)和所述第二沉淀區(qū)。

優(yōu)選的，所述側(cè)壁對(duì)應(yīng)所述第一沉淀區(qū)的位置開設(shè)有第一出液孔；對(duì)應(yīng)所述澄清區(qū)的位置開設(shè)有第二出液孔；對(duì)應(yīng)所述第二沉淀區(qū)的位置開設(shè)有第三出液孔，所述第一出液孔、第二出液孔及所述第三出液孔均設(shè)置于所述側(cè)壁底部位置，所述第一管路與所述第一出液孔連接，所述第二管路與所述第二出液孔連接，所述第四管路與所述第三出液孔連接。

優(yōu)選的，所述循環(huán)裝置包括具有出氣口的第二殼體、收容于所述第二殼體內(nèi)的第二噴嘴、設(shè)于所述第二噴嘴下方的填料層以及環(huán)設(shè)于所述填料層周圍的微波裝置，處理后的氣體由所述出氣口排出，所述第二噴嘴與所述第三管路連通，且所述第二噴嘴的朝向與氣體的運(yùn)動(dòng)方向相反。