[實用新型]一種平板式PECVD設備進出料腔

有效

• 申請號: 201920427282.1
• 申請日: 2019-03-29
• 公開（公告）號: CN210030881U
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 唐電;張威;陳特超;楊彬;蘇衛中;李建志;吳易龍
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 43008 湖南兆弘專利事務所(普通合伙)
• 代理人: 周長清;徐好

本實用新型公開了一種平板式PECVD設備進出料腔，包括腔體及與腔體鉸接的腔蓋，所述腔體的底部設有下充氣嘴，所述腔蓋上設有上充氣嘴，所述上充氣嘴和所述下充氣嘴對齊。本實用新型具有結構簡單、充氣速度快、有利于減少揚塵等優點。

技術領域

本實用新型涉及平板式PECVD設備，尤其涉及一種平板式PECVD設備進出料腔。

背景技術

平板式PECVD設備的進出料腔在工藝過程中，需要頻繁地進行充氣-抽真空，為了提高生產效率，需要快速完成充氣和抽真空過程(充氣通常只有數秒時間)。由于充氣氣流的壓力大、流速快，現有的充氣結構充氣時容易引起腔體內揚塵，揚塵會造成硅片表面出現污染、吸附甚至嵌入物等缺陷，最終會影響電池片的轉換效率。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種結構簡單、充氣速度快、有利于減少揚塵的平板式PECVD設備進出料腔。

為解決上述技術問題，本實用新型采用以下技術方案：

一種平板式PECVD設備進出料腔，包括腔體及與腔體鉸接的腔蓋，所述腔體的底部設有下充氣嘴，所述腔蓋上設有上充氣嘴，所述上充氣嘴和所述下充氣嘴對齊。

作為上述技術方案的進一步改進：所述上充氣嘴上設有緩沖腔，所述下充氣嘴上端延伸至所述緩沖腔內。

作為上述技術方案的進一步改進：所述緩沖腔為圓錐狀，所述下充氣嘴上端的直徑大于下端的直徑。

作為上述技術方案的進一步改進：所述腔體與所述腔蓋之間還設有密封圈。

與現有技術相比，本實用新型的優點在于：本實用新型公開的平板式PECVD設備進出料腔，在腔蓋上和腔體的底部分別設有上充氣嘴和下充氣嘴，上下兩側同時充氣，有利于提高充氣速度，上充氣嘴和下充氣嘴上下對齊，充氣時，上部氣流的沖力和下部氣流的沖力會相互抵消，然后再平緩地擴散至腔體各處，從而可以有效地減少揚塵，避免在硅片表面造成污染、吸附甚至嵌入物等缺陷，同時也可避免大流量氣體在大壓差下對硅片產生沖擊，造成碎片。

附圖說明

圖1是本實用新型平板式PECVD設備進出料腔的主視結構示意圖。

圖中各標號表示：1、腔體；2、腔蓋；3、下充氣嘴；4、上充氣嘴；41、緩沖腔；5、鉸鏈；6、密封圈。

具體實施方式

以下結合說明書附圖和具體實施例對本實用新型作進一步詳細說明。

圖1示出了本實用新型平板式PECVD設備進出料腔的一種實施例，本實施例的平板式PECVD設備進出料腔，包括腔體1及與腔體1鉸接的腔蓋2，腔體1的底部設有下充氣嘴3，腔蓋2上設有上充氣嘴4，上充氣嘴4和下充氣嘴3對齊。

該平板式PECVD設備進出料腔，在腔蓋2上和腔體1的底部分別設有上充氣嘴4和下充氣嘴3，上下兩側同時充氣，有利于提高充氣速度，上充氣嘴4和下充氣嘴3上下對齊，充氣時，上部氣流的沖力和下部氣流的沖力會相互抵消，然后再平緩地擴散至腔體1各處，從而可以有效地減少腔體1內出現揚塵，避免在硅片表面造成污染、吸附甚至嵌入物等缺陷，避免因氣流沖擊而導致碎片。

進一步地，本實施例中，上充氣嘴4上設有緩沖腔41，下充氣嘴3上端延伸至緩沖腔41內。在上充氣嘴4上設置緩沖腔41，上下兩側的充氣氣流匯合后，先經過緩沖腔41緩沖、泄壓后再進入腔體1內，使得腔體1內進氣更柔和。

更進一步地，本實施例中，緩沖腔41為圓錐狀，下充氣嘴3上端的直徑大于下端的直徑。充氣氣體從上充氣嘴4和下充氣嘴3充入后，在緩沖腔41和下充氣嘴3上端的引導下呈水平狀進入腔體1內，有利于保證進入腔體1內氣體的均勻。