[實用新型]一種平板式PECVD設備進出料腔有效
| 申請號: | 201920427282.1 | 申請日: | 2019-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN210030881U | 公開(公告)日: | 2020-02-07 |
| 發明(設計)人: | 唐電;張威;陳特超;楊彬;蘇衛中;李建志;吳易龍 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第四十八研究所 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 43008 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) | 代理人: | 周長清;徐好 |
| 地址: | 410111 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 充氣嘴 腔體 本實用新型 腔蓋 進出料腔 對齊 平板式 充氣 鉸接 揚塵 | ||
1.一種平板式PECVD設備進出料腔,包括腔體(1)及與腔體(1)鉸接的腔蓋(2),其特征在于:所述腔體(1)的底部設有下充氣嘴(3),所述腔蓋(2)上設有上充氣嘴(4),所述上充氣嘴(4)和所述下充氣嘴(3)對齊。
2.根據權利要求1所述的平板式PECVD設備進出料腔,其特征在于:所述上充氣嘴(4)上設有緩沖腔(41),所述下充氣嘴(3)上端延伸至所述緩沖腔(41)內。
3.根據權利要求2所述的平板式PECVD設備進出料腔,其特征在于:所述緩沖腔(41)為圓錐狀,所述下充氣嘴(3)上端的直徑大于下端的直徑。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的平板式PECVD設備進出料腔,其特征在于:所述腔體(1)與所述腔蓋(2)之間還設有密封圈(6)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





