[實用新型]光掃描裝置和激光雷達有效
| 申請號： | 201920424820.1 | 申請日： | 2019-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN210038328U | 公開（公告）日： | 2020-02-07 |
| 發明（設計）人： | 魏威;譚斌 | 申請（專利權）人： | 深圳市速騰聚創科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B26/10 | 分類號： | G02B26/10;G02B26/08;G01S7/481 |
| 代理公司： | 44224 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 | 代理人： | 陳小娜;景懷宇 |
| 地址： | 518051 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射鏡 基底 激光雷達 消光 入射光線 連接橋 散射光 光掃描裝置 探測盲區 雜散光 反射 探測 申請 | ||
1.一種光掃描裝置，其特征在于，所述裝置包括：反射鏡、連接橋、反射鏡基底和消光件；所述反射鏡通過所述連接橋安裝在所述反射鏡基底上，所述消光件置于所述反射鏡基底前方；
所述反射鏡,用于對入射光線進行反射；
所述消光件,用于減少所述入射光線在所述反射鏡基底上產生的散射光。
2.根據權利要求1所述的光掃描裝置，其特征在于，所述消光件為光闌，所述光闌設置在所述反射鏡的正面，所述光闌的通光孔對準所述反射鏡。
3.根據權利要求2所述的光掃描裝置，其特征在于，所述光闌的通光孔的面積大于或等于所述反射鏡的面積。
4.根據權利要求3所述的光掃描裝置，其特征在于，所述光闌按照預先的設定高度設置在所述反射鏡的正面；所述設定高度是根據所述入射光線的最大入射角、以及所述光闌與所述反射鏡的半徑差所確定的高度。
5.根據權利要求2所述的光掃描裝置，其特征在于，所述光闌的表面散射系數低于所述反射鏡基底正面的散射系數。
6.根據權利要求5所述的光掃描裝置，其特征在于，所述光闌上附著吸光膜或反光膜。
7.根據權利要求2至6任一項所述的光掃描裝置，其特征在于，所述光闌的厚度小于預設的厚度閾值，所述厚度閾值通過不遮擋所述反射鏡反射的入射光線確定。
8.根據權利要求1所述的光掃描裝置，其特征在于，所述反射鏡基底的正面附有消光層，所述消光層用于減少所述反射鏡基底對所述入射光線的散射。
9.根據權利要求8所述的光掃描裝置，其特征在于，所述消光層為反光層或吸光層。
10.一種激光雷達，其特征在于，所述激光雷達包括如權利要求1至9任一項所述的光掃描裝置。
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