[實用新型]一種緊湊高效異型件超厚膜層設備

有效

• 申請號: 201920402948.8
• 申請日: 2019-03-28
• 公開（公告）號: CN210193989U
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發明（設計）人: 張佳
• 申請（專利權）人: 北京辰融科技有限責任公司
• 主分類號: C23C14/48
• 分類號: C23C14/48;C23C14/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種緊湊高效異型件超厚膜層設備，包括真空室殼體，所述真空室殼體上端固定焊接有第一分子泵法蘭接口，所述真空室殼體的前端右側和后側左側均固定焊接有金屬離子注入法蘭接口，所述真空室殼體的前端中部固定焊接有樣品導入法蘭接口，所述真空室殼體的前側左下部和右下部均焊接有磁過濾沉積法蘭接口，所述真空室殼體的下端中部焊接有第二分子泵法蘭接口，所述真空室殼體的后端中部焊接有加熱管法蘭接口，所述真空室殼體的左側上部固定連接有自動觀察窗。該緊湊高效異型件超厚膜層設備，制備高質量混合層以及過渡層，使涂層與基底結合良好，有效降低類金剛石膜的內應力，提高整體涂層質量。

技術領域

本實用新型涉及工業技術領域，具體為一種緊湊高效異型件超厚膜層設備。

背景技術

陶瓷涂層的抗腐蝕性能優良，具有韌性好，熱硬性高，能承受一定的彈性形變壓力。相對于化學氣相沉積，采用物理沉積方法沉積涂層，大大地改善了涂層與基體的結合力，使其有著廣泛的應用。然而，陶瓷膜層一般摩擦系數偏高，這在涉及到需要提高工件的耐磨性能時其效果相對有限。眾所周知，類金剛石薄膜具有許多與金剛石薄膜相似的性能，如硬度、超低的摩擦系數、磨損率低、導熱性能好、熱膨脹系數小等特點，磁過濾沉積技術作為一種高離化率技術，具有膜層沉積過程可控性好，膜層性能(包括膜基結合力、力學性能、耐摩擦磨損性能及耐化學腐蝕性能等)大大改善的優點。但從沉積效率的角度來講，該技術存在的缺點是沉積速率太低，且鍍膜相對繞射性差，因此我們提出了一種緊湊高效異型件超厚膜層設備。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種緊湊高效異型件超厚膜層設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種緊湊高效異型件超厚膜層設備，包括真空室殼體，所述真空室殼體上端固定焊接有第一分子泵法蘭接口，所述真空室殼體的前端右側和后側左側均固定焊接有金屬離子注入法蘭接口，所述真空室殼體的前端中部固定焊接有樣品導入法蘭接口，所述真空室殼體的前側左下部和右下部均焊接有磁過濾沉積法蘭接口，所述真空室殼體的下端中部焊接有第二分子泵法蘭接口，所述真空室殼體的后端中部焊接有加熱管法蘭接口，所述真空室殼體的左側上部固定連接有自動觀察窗，所述真空室殼體的左側下部固定連接有抽真空管道連接法蘭，所述磁過濾沉積法蘭接口與磁過濾陰極弧法蘭座相連，所述磁過濾陰極弧法蘭座的內腔側壁固定連接有磁過濾陰極，所述磁過濾陰極弧法蘭座的下端固定連接有陽極筒，所述陽極筒的外側上下側套接有脈沖線包、和聚焦線包，所述陽極筒的下端通過法蘭連接有磁過濾灣管，所述磁過濾灣管的外側上部套接有過渡線包，所述磁過濾灣管的外側中部和下部套接有高脈沖線包，所述金屬離子注入法蘭接口通過連接法蘭連接離子發生裝置，所述離子發生裝置包括離子注入陰極靶、輔助陽極板、引出電極和加速電極和聚焦電極。

優選的，所述離子注入陰極靶通過導線和第一電源串聯，所述輔助陽極板和第二電源以及電阻串聯，所述第二電源和電阻并聯，所述電阻與加速電極和聚焦電極相連。

優選的，所述第一分子泵法蘭接口和第二分子泵法蘭接口上下對應設置，所述第一分子泵法蘭接口和第二分子泵法蘭接口通過管道連接分子泵。

優選的，所述加熱管法蘭接口通過管道連接供熱設備，供熱設備為氣源加熱設備。

優選的，所述第一分子泵法蘭接口、金屬離子注入法蘭接口、樣品導入法蘭接口、磁過濾沉積法蘭接口、第二分子泵法蘭接口、加熱管法蘭接口和抽真空管道連接法蘭均通過管道與真空室殼體相連通，且各個所述管道上均設有開關閥。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：該緊湊高效異型件超厚膜層設備，通過設備的整體結構，整個沉積過程溫度低，對基底幾乎沒有影響。制備高質量混合層以及過渡層，使涂層與基底結合良好。在靶上加脈沖偏壓，使到達基材的離子能量為混合狀態的多能量離子束，這樣有效降低類金剛石膜的內應力，提高整體涂層質量。結合陶瓷膜層以及類金剛石膜層的各自獨有的特性，制備具有高硬度、耐磨損，低摩擦系數、高結合力等特點的涂層，應用前景廣泛。