[實用新型]一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽

有效

• 申請號: 201920377929.4
• 申請日: 2019-03-25
• 公開（公告）號: CN209919044U
• 公開（公告）日: 2020-01-10
• 發明（設計）人: 瞿建強;蔣偉
• 申請（專利權）人: 光科真空科技(泰興)有限公司
• 主分類號: B23H5/08
• 分類號: B23H5/08;B23H11/00
• 代理公司: 32247 江陰義海知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 孫霞

1.一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，包括電解槽本體和直流電源，直流電源設有正極和負極，其特征在于，所述電解槽本體包括真空腔體的固定裝置、電解液的攪拌裝置以及檢測控制裝置；直流電源的陽極與固定在電解槽中的陽極金屬片電連接，直流電源的陰極與固定在電解槽中的陰極金屬片電連接；固定陽極金屬片的側壁與電解槽本體之間設有緩沖腔，電解槽本體另一側壁設有電解液的進液口和出液口，所述電解槽本體的底部向下凸起。

2.根據權利要求1所述的一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，其特征在于，真空腔體的固定裝置包括電機、伸縮桿和加持柱，電機固定于緩沖腔內，電機與伸縮桿一端連接并且帶動伸縮桿運動，伸縮桿另一端與加持柱連接，伸縮桿水平穿過設有陽極金屬片的電解槽本體的側壁，伸縮桿與側壁的連接處設有密封圈；加持柱位于電解槽本體的內部，加持柱位于陽極金屬片的左右兩側。

3.根據權利要求2所述的一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，其特征在于，所述檢測控制裝置包括位于電解槽本體底部的壓力傳感器，位于電解槽本體頂部的氣壓傳感器和位于電解槽外部的控制器，所述壓力傳感器和氣壓傳感器分別與控制器電連接。

4.根據權利要求3所述的一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，其特征在于，電解槽本體底部固定有電解液的攪拌裝置，所述攪拌裝置是攪拌槳，所述攪拌裝置與控制器電連接。

5.根據權利要求4所述的一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，其特征在于，電解槽本體底部設有若干槽孔，槽孔內安插有支撐柱，支撐柱的高度高于攪拌裝置的高度。

6.根據權利要求5所述的一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，其特征在于，所述電解槽本體底部設有排污閥，電解槽本體頂部設有排氣閥。

7.根據權利要求6所述的一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，其特征在于，電解槽本體中的陽極金屬片和陰極金屬片相對放置，分別設置在電解槽的對面。

8.根據權利要求7所述的一種應用于真空腔體研磨工藝的電解槽，其特征在于，所述電解槽底部設有支撐腳。