[實用新型]一種用于黑硅制備的反應裝置有效
| 申請號: | 201920367627.9 | 申請日: | 2019-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN209592066U | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發明(設計)人: | 何其金;張靖;何飛;沈鴻烈 | 申請(專利權)人: | 江蘇德潤光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 艾秀麗 |
| 地址: | 225600 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應桶 離子氣流 黑硅 反應裝置 制備 螺旋槽 三通閥 硅片 直流脈沖電源 本實用新型 復合分子泵 氣體流動性 工業設備 硅片加工 生產效率 負極 進氣管 收集箱 輸入管 循環管 底壁 位塊 流動 加工 離子 轉動 通電 | ||
1.一種用于黑硅制備的反應裝置,包括反應桶(1),其特征在于:所述反應桶(1)桶內的底壁上固定連接有限位塊(2),反應桶(1)桶內底壁上活動連接有與限位塊(2)相接觸的分隔筒(3),分隔筒(3)的左右兩側均開設有數量為五個的通氣孔(4),分隔筒(3)筒內側壁開設有第一螺旋槽(5),所述反應桶(1)桶內底壁上固定連接有位于分隔筒(3)內部的支撐桿(6),支撐桿(6)的頂部固定連接有反應臺(7),反應臺(7)的底部固定連接有穿過支撐桿(6)且延伸至反應桶(1)前側的連接線(8),連接線(8)的前側固定連接有直流脈沖電源(9),反應桶(1)的右側固定連接有放置板(12),放置板(12)的頂部固定連接有復合分子泵(13),復合分子泵(13)的輸入口固定連接有延伸至反應桶(1)內部的輸入管(11),復合分子泵(13)輸出口處固定連接有三通閥(14),三通閥(14)的前側固定連接有連接管(16),連接管(16)的底部固定連接有與反應桶(1)相接觸的收集箱(15),所述三通閥(14)的右側固定連接有延伸至反應桶(1)內部的循環管(17),反應桶(1)的左側固定連接有延伸至反應桶(1)內部的進氣管(18),反應桶(1)的左側固定連接有位于進氣管(18)下方的氣壓表(19),反應桶(1)桶內頂壁固定連接有延伸至反應桶(1)外部的連接筒(20),連接筒(20)的外部套接有與反應桶(1)相接觸的頂蓋(21),頂蓋(21)的底部固定連接有延伸至連接筒(20)內部的擋塊(22),擋塊(22)的外部套接有與連接筒(20)相接觸的第一密封圈(23),連接筒(20)的外部套接有與頂蓋(21)和反應桶(1)相接觸的第二密封圈(24),反應桶(1)桶內側壁開設有第二螺旋槽(10)。
2.根據權利要求1所述的一種用于黑硅制備的反應裝置,其特征在于:所述限位塊(2)為中空圓環塊,限位塊(2)的內徑等于分隔筒(3)的外徑,限位塊(2)的外徑小于反應桶(1)的內徑。
3.根據權利要求1所述的一種用于黑硅制備的反應裝置,其特征在于:所述通氣孔(4)共有十個,十個所述通氣孔(4)分成兩組,一組五個所述通氣孔(4)呈等距分布,左側所述通氣孔(4)與右側所述通氣孔(4)呈錯位分布。
4.根據權利要求1所述的一種用于黑硅制備的反應裝置,其特征在于:所述收集箱(15)為矩形箱,收集箱(15)位于放置板(12)的下方。
5.根據權利要求1所述的一種用于黑硅制備的反應裝置,其特征在于:所述擋塊(22)為圓柱塊,擋塊(22)的直徑小于連接筒(20)的內徑。
6.根據權利要求1所述的一種用于黑硅制備的反應裝置,其特征在于:所述第一螺旋槽(5)和第二螺旋槽(10)的方向相同,第一密封圈(23)和第二密封圈(24)均為真空密封圈。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





