[實用新型]一種氣體回用裝置及單晶硅生產設備

有效

• 申請號: 201920298047.9
• 申請日: 2019-03-08
• 公開（公告）號: CN210657214U
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 賈禎;金雪;冉瑞應;楊東
• 申請（專利權）人: 銀川隆基硅材料有限公司
• 主分類號: C30B15/00
• 分類號: C30B15/00;C30B29/06
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 莎日娜

本實用新型提供了一種氣體回用裝置及單晶硅生產設備，該氣體回用裝置包括：氣體凈化模塊、檢測模塊以及控制模塊；其中，氣體凈化模塊分別與單晶硅生產設備的出氣口及進氣口連接，檢測模塊分別與氣體凈化模塊的出氣口和單晶硅生產設備的進氣口連接，控制模塊分別與所述氣體凈化模塊、所述純凈氣體儲存罐、所述檢測模塊電性連接，所述控制模塊用于控制所述氣體凈化模塊向所述單晶硅生產設備供氣，或者，控制所述純凈氣體儲存罐向所述單晶硅生產設備供氣。本實用新型實施例中，可以避免將不符合使用要求的氣體通入所述單晶硅生產設備，提高所述單晶硅生產設備生產的單晶硅的品質。

技術領域

本實用新型涉及單晶硅制造技術領域，特別是涉及一種氣體回用裝置及單晶硅生產設備。

背景技術

單晶硅生產設備在采用拉晶法生產單晶硅時，通常需要往爐內引入惰性氣體，利用惰性氣體對晶體生長環境的吹掃作用，可以帶走揮發物及氧化物等雜質，提高拉晶過程的穩定性及單晶硅的品質。

現有的技術中，為了提高惰性氣體的利用率，通常在單晶硅生產設備上設置有氣體回用裝置，以對單晶硅生產設備排出的惰性氣體進行凈化，得到回用氣體，并將該回用氣體通入單晶硅生產設備內進行重復使用。現有的氣體回用裝置中，在將單晶硅生產設備的惰性氣體進行凈化后，往往直接將回用氣體通入單晶硅生產設備內使用。

然而，在氣體回用裝置的對單晶硅生產設備排出的惰性氣體進行凈化的過程中，在氣體回用裝置出現故障的情況下，或者，在氣體回用裝置的回用管道出現泄露的情況下，很容易導致該回用氣體無法滿足使用需求。在實際應用中，將不符合使用需求的回用氣體通入單晶硅生產設備內，很容易降低單晶硅的品質。

實用新型內容

鑒于上述問題，提出了本實用新型以便提供一種克服上述問題或者至少部分地解決上述問題的一種氣體回用裝置及單晶硅生產設備。

為了解決上述問題，一方面，本實用新型公開了一種氣體回用裝置，應用于單晶硅生產設備，所述單晶硅生產設備的進氣口與純凈氣體儲存罐連接；所述氣體回用裝置包括：氣體凈化模塊、檢測模塊以及控制模塊；其中，

所述氣體凈化模塊分別與所述單晶硅生產設備的出氣口及進氣口連接，所述氣體凈化模塊用于凈化所述單晶硅生產設備排出的氣體，還用于向所述單晶硅生產設備提供凈化后的氣體；

所述檢測模塊分別與所述氣體凈化模塊的出氣口、所述單晶硅生產設備的進氣口連接，所述檢測模塊用于檢測所述氣體凈化模塊輸出的凈化后的氣體的狀態，以及檢測進入所述單晶硅生產設備的氣體的狀態；

所述控制模塊分別與所述氣體凈化模塊、所述純凈氣體儲存罐、所述檢測模塊電性連接，所述控制模塊用于控制所述氣體凈化模塊向所述單晶硅生產設備供氣，或者，控制所述純凈氣體儲存罐向所述單晶硅生產設備供氣。

可選的，所述氣體回用裝置還包括：氣體排放管道、回用供氣管道、進氣管道以及檢測管道；

其中，所述氣體排放管道分別與所述單晶硅生產設備的出氣口、所述氣體凈化模塊的進氣口連接；

所述回用供氣管道分別與所述氣體凈化模塊的出氣口、所述單晶硅生產設備的進氣口連接；

所述進氣管道分別與所述純凈氣體儲存罐、所述單晶硅生產設備的進氣口連接；

所述檢測管道分別與所述檢測模塊、所述單晶硅生產設備的進氣口連接。

可選的，所述氣體回用裝置還包括：第一控制閥和第二控制閥，所述第一控制閥和所述第二控制閥分別與所述控制模塊連接；其中，

所述第一控制閥設置于所述氣體排放管道與所述氣體凈化模塊的進氣口之間，所述第一控制閥用于控制所述氣體排放管道與所述氣體凈化模塊之間的通斷；