[實用新型]一種氣體回用裝置及單晶硅生產設備有效
| 申請號: | 201920298047.9 | 申請日: | 2019-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN210657214U | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 賈禎;金雪;冉瑞應;楊東 | 申請(專利權)人: | 銀川隆基硅材料有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/00 | 分類號: | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
| 地址: | 750000 寧夏回族自治區銀*** | 國省代碼: | 寧夏;64 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氣體 裝置 單晶硅 生產 設備 | ||
1.一種氣體回用裝置,應用于單晶硅生產設備,所述單晶硅生產設備的進氣口與純凈氣體儲存罐連接;其特征在于,所述氣體回用裝置包括:氣體凈化模塊、檢測模塊以及控制模塊;其中,
所述氣體凈化模塊分別與所述單晶硅生產設備的出氣口及進氣口連接,所述氣體凈化模塊用于凈化所述單晶硅生產設備排出的氣體,還用于向所述單晶硅生產設備提供凈化后的氣體;
所述檢測模塊分別與所述氣體凈化模塊的出氣口、所述單晶硅生產設備的進氣口連接,所述檢測模塊用于檢測所述氣體凈化模塊輸出的凈化后的氣體的狀態,以及檢測進入所述單晶硅生產設備的氣體的狀態;
所述控制模塊分別與所述氣體凈化模塊、所述純凈氣體儲存罐、所述檢測模塊電性連接,所述控制模塊用于控制所述氣體凈化模塊向所述單晶硅生產設備供氣,或者,控制所述純凈氣體儲存罐向所述單晶硅生產設備供氣。
2.根據權利要求1所述的氣體回用裝置,其特征在于,所述氣體回用裝置還包括:氣體排放管道、回用供氣管道、進氣管道以及檢測管道;
其中,所述氣體排放管道分別與所述單晶硅生產設備的出氣口、所述氣體凈化模塊的進氣口連接;
所述回用供氣管道分別與所述氣體凈化模塊的出氣口、所述單晶硅生產設備的進氣口連接;
所述進氣管道分別與所述純凈氣體儲存罐、所述單晶硅生產設備的進氣口連接;
所述檢測管道分別與所述檢測模塊、所述單晶硅生產設備的進氣口連接。
3.根據權利要求2所述的氣體回用裝置,其特征在于,所述氣體回用裝置還包括:第一控制閥和第二控制閥,所述第一控制閥和所述第二控制閥分別與所述控制模塊連接;其中,
所述第一控制閥設置于所述氣體排放管道與所述氣體凈化模塊的進氣口之間,所述第一控制閥用于控制所述氣體排放管道與所述氣體凈化模塊之間的通斷;
所述第二控制閥設置于所述氣體凈化模塊的出氣口與所述回用供氣管道之間,所述第二控制閥用于控制所述氣體凈化模塊與所述回用供氣管道之間的通斷。
4.根據權利要求3所述的氣體回用裝置,其特征在于,所述氣體回用裝置還包括:回用排氣管道;其中
所述回用排氣管道的一端與所述第二控制閥連接,所述回用排氣管道的另一端與所述第一控制閥連接。
5.根據權利要求3所述的氣體回用裝置,其特征在于,所述第一控制閥、所述第二控制閥皆為三通閥。
6.根據權利要求2所述的氣體回用裝置,其特征在于,所述氣體回用裝置還包括:第三控制閥以及第四控制閥,所述第三控制閥和所述第四控制閥分別與所述控制模塊連接;其中,
所述第三控制閥設置于所述檢測管道與所述單晶硅生產設備的進氣口之間,所述第三控制閥用于控制所述檢測管道的通斷;
所述第四控制閥設置于所述進氣管道與所述單晶硅生產設備的進氣口之間,所述第四控制閥用于控制所述進氣管道的通斷。
7.根據權利要求6所述的氣體回用裝置,其特征在于,所述第三控制閥、所述第四控制閥皆為三通閥。
8.根據權利要求2所述的氣體回用裝置,其特征在于,所述氣體凈化模塊包括:過濾部件、第一純化部件以及第二純化部件;其中,
所述第一純化部件分別與所述過濾部件、所述第二純化部件連接;
所述過濾部件與所述氣體排放管道連接;
所述第二純化部件與所述檢測模塊連接。
9.一種單晶硅生產設備,其特征在于,包括:權利要求1至8任一項所述的氣體回用裝置。
10.根據權利要求9所述的單晶硅生產設備,其特征在于,所述單晶硅生產設備還包括:單晶爐和與所述單晶爐連接的真空泵;
其中,所述單晶爐的進氣口分別與所述純凈氣體儲存罐、所述檢測模塊連接;
所述真空泵的出氣口與所述氣體凈化模塊連接。
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