[實(shí)用新型]等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)和全自動(dòng)微波等離子清洗設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920284034.6
• 申請(qǐng)日: 2019-03-06
• 公開（公告）號(hào): CN209922369U
• 公開（公告）日: 2020-01-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂永忠
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 達(dá)格測(cè)試設(shè)備(蘇州)有限公司
• 主分類號(hào): B65G47/82
• 分類號(hào): B65G47/82;B65G47/90
• 代理公司: 33273 寧波高新區(qū)核心力專利代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 袁麗花

1.一種等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，包括位于清洗機(jī)輸入端的上料機(jī)構(gòu)與位于清洗機(jī)輸出端的下料機(jī)構(gòu)；

所述上料機(jī)構(gòu)包括上料平臺(tái)與上料驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，所述下料機(jī)構(gòu)包括下料平臺(tái)與下料驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，所述上料平臺(tái)與下料平臺(tái)上分別對(duì)應(yīng)設(shè)置有若干個(gè)用于輸送產(chǎn)品的輸送導(dǎo)軌，所述輸送導(dǎo)軌平行設(shè)置，產(chǎn)品經(jīng)相鄰兩輸送導(dǎo)軌間輸送；

所述上下料系統(tǒng)還包括一用于調(diào)節(jié)相鄰兩輸送導(dǎo)軌間間距、使得相鄰兩輸送導(dǎo)軌間間距與產(chǎn)品寬度相匹配的間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；

所述上料機(jī)構(gòu)與下料機(jī)構(gòu)還包括對(duì)應(yīng)的設(shè)置于上料平臺(tái)與下料平臺(tái)一側(cè)的上料機(jī)械手與下料機(jī)械手，所述上料機(jī)械手與下料機(jī)械手分別與所述上料平臺(tái)與下料平臺(tái)對(duì)接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)為電機(jī)絲杠傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，相鄰兩輸送導(dǎo)軌的至少一個(gè)輸送導(dǎo)軌上配置有與絲杠傳動(dòng)的螺母，電機(jī)絲杠傳動(dòng)機(jī)構(gòu)啟動(dòng)帶動(dòng)與其配合的輸送導(dǎo)軌平移以調(diào)節(jié)輸送導(dǎo)軌間的寬度；所述輸送導(dǎo)軌上對(duì)應(yīng)設(shè)置有用以檢測(cè)產(chǎn)品有無(wú)的第一傳感器。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述上料機(jī)械手與下料機(jī)械手為三自由度移動(dòng)機(jī)械手，所述上料機(jī)械手上遠(yuǎn)離上料平臺(tái)的一側(cè)設(shè)置有產(chǎn)品推送機(jī)構(gòu)，所述上料機(jī)械手在上料驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)下移動(dòng)至與所述上料平臺(tái)對(duì)齊時(shí)，產(chǎn)品推送機(jī)構(gòu)動(dòng)作將料盒內(nèi)產(chǎn)品逐一推送至上料平臺(tái)上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述三自由度移動(dòng)機(jī)械手包括三自由度移動(dòng)機(jī)構(gòu)與夾爪，所述夾爪包括上夾爪與下夾爪，裝有待清洗產(chǎn)品的料盒夾持于上夾爪與下夾爪之間，所述夾爪上設(shè)置有用于檢測(cè)待抓取料盒的第二傳感器。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述產(chǎn)品推送機(jī)構(gòu)上設(shè)置有用于檢測(cè)推力大小的推力傳感器。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述上料平臺(tái)、下料平臺(tái)能夠相對(duì)上料機(jī)械手、下料機(jī)械手沿垂直產(chǎn)品輸送方向的Y軸方向水平移動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述上料平臺(tái)、清洗機(jī)以及下料平臺(tái)的輸入端分別對(duì)應(yīng)設(shè)置有用以推出產(chǎn)品至下一工位的第一推送裝置、第二推送裝置與第三推送裝置，所述第一推送裝置、第二推送裝置與第三推送裝置均能夠沿X軸方向水平移動(dòng)，產(chǎn)品輸送時(shí)，上料機(jī)械手與上料平臺(tái)沿Y軸方向移動(dòng)至遠(yuǎn)離第一推送裝置的位置對(duì)齊，產(chǎn)品推送機(jī)構(gòu)將上料機(jī)械手處料盒內(nèi)產(chǎn)品逐一推送至上料平臺(tái)，上料平臺(tái)沿Y軸方向復(fù)位與清洗機(jī)對(duì)齊，第一推送裝置、第二推送裝置同步動(dòng)作，將上料平臺(tái)上的產(chǎn)品推送至清洗機(jī)、清洗機(jī)上的產(chǎn)品推送至下料平臺(tái)，第三推送裝置推動(dòng)下料平臺(tái)上產(chǎn)品下料至下料機(jī)械手所夾持的料盒內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述第三推送裝置為三自由度推送裝置，包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、沿X軸方向移動(dòng)的推送支架與沿Y軸方向滑動(dòng)設(shè)置于推送支架上的升降氣缸以及連接于所述升降氣缸上的推送桿，所述推送支架架設(shè)于驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，高出產(chǎn)品設(shè)置，推送產(chǎn)品時(shí)，升降氣缸帶動(dòng)推送桿下移與產(chǎn)品對(duì)齊，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)推送支架整體移動(dòng)將產(chǎn)品逐一推送至下料機(jī)械手所夾持的料盒內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求3-8任一項(xiàng)所述的等離子清洗機(jī)用上下料系統(tǒng)，其特征在于，所述料盒內(nèi)設(shè)置有若干隔架，產(chǎn)品依次疊置于料盒內(nèi)，上料時(shí)，料盒內(nèi)的頂層產(chǎn)品或底層產(chǎn)品與上料平臺(tái)平齊，每推送上料一個(gè)產(chǎn)品，上料機(jī)械手上移或下移一個(gè)隔架的高度，多個(gè)疊置的產(chǎn)品依次上料。

10.一種全自動(dòng)微波等離子清洗設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的上下料系統(tǒng)以及位于上料機(jī)構(gòu)與下料機(jī)構(gòu)間的清洗機(jī)，所述清洗機(jī)上設(shè)置有放置產(chǎn)品的放置軌道，放置軌道的輸入端倒角設(shè)置。