[實用新型]一種配向膜涂布檢測裝置有效
| 申請號: | 201920258169.5 | 申請日: | 2019-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN209992419U | 公開(公告)日: | 2020-01-24 |
| 發明(設計)人: | 陳化平 | 申請(專利權)人: | 昆山龍騰光電有限公司 |
| 主分類號: | G01N25/00 | 分類號: | G01N25/00;G01N21/88;G02F1/13 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215301 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基板 檢測 成像單元 加熱板 預烘烤 機臺 基板檢測裝置 本實用新型 配向膜涂布 檢測裝置 配向膜 膜面 光學檢查機 基板加熱 基板檢測 缺陷檢測 圖像確定 涂布機臺 異常檢測 漏檢率 良率 加熱 圖像 反饋 生產 | ||
本實用新型實施例公開了一種配向膜涂布檢測裝置,包括涂布機臺、預烘烤機臺和光學檢查機,該預烘烤機臺包括給已涂布配向膜的待檢測基板加熱的加熱板,還包括對待檢測基板檢測缺陷的基板檢測裝置;該基板檢測裝置包括設置在待檢測基板上方的成像單元、與成像單元和加熱板連接的控制單元;該成像單元收集待檢測基板在加熱中的膜面圖像并反饋給該控制單元,該控制單元控制該加熱板的溫度并根據該膜面圖像確定待檢測基板中缺陷的位置。本實用新型實施例公開的配向膜涂布檢測裝置能夠對待檢測基板在預烘烤的過程中同時對配向膜進行缺陷檢測,既能提高異常檢測率,又能降低不良漏檢率,大大提升了產品的生產良率。
技術領域
本實用新型屬于檢測裝置技術領域,尤其涉及一種配向膜涂布檢測裝置。
背景技術
在現有顯示面板行業中,配向膜用于對液晶配向,使液晶在無電壓狀態時具備一定的預傾角。現有技術中,配向膜的涂布主要通過轉印或噴墨的方式,其中轉印式由于其準確性及印刷表面相對均勻性等優點得到廣泛的使用。圖1是現有技術中配向膜的涂布檢測機臺示意圖,圖2 是現有技術中涂布檢測機臺的涂布示意圖;如圖1和圖2所示:首先通過涂布機臺(PI Coater)10’的配向噴嘴11’將配向膜噴涂在刮刀12’上,再由刮刀12’均勻地將配向膜轉印到A輪(Anilox Roller)13’上,A輪13’的轉動把配向膜再轉印到掛在P輪(PrintRoller)14’上的配向膜印刷版(APR 版)15’上,配向膜印刷版(APR版)15’上的圓形網孔將配向膜擠壓出來并帶走,最后均勻地轉印到放置于基臺17’上的基板16’(TFT基板或CF 基板)上。
如果基臺殘留有微小玻璃碎屑等異物,配向膜轉印過程中,基臺上異物會給TFT基板或CF基板背面一向上的應力,使得TFT基板或CF 基板背面出現微小裂紋。如何能有效地減少微小裂紋的發生,主要有兩方面,一是“預”,即定期清理卡匣、傳送設備、轉印基臺;第二個方面是“防”,即通過檢查設備,第一時間發現不良問題,及時有效地避免異常發生。
現有技術中,配向膜涂布完后的基板被傳送到預烘烤機臺(Pre Cure)20’進行預加熱,使配向膜內的溶劑加速揮發,形成固狀的配向膜,然后以一定的頻率進入自動光學檢查機(PI Inspection)30’檢查TFT或CF 基板表面的缺陷(如mura、異物等),再以一定的頻率進入人工檢查機進行人工肉眼檢查。隨著高分辨率、高對比度的高階機種及越來越薄的玻璃基板投入生產,現有的自動光學檢查機檢查能力已很難適應,可能存在檢測率不佳、漏檢率高的問題;而人工肉眼檢查又無法發現,不能及時攔截異常基板,會造成大量的基板報廢,降低生產良率,增加了生產成本。
有鑒于此,本實用新型申請人針對現有技術中配向膜的涂布機臺未臻完善所導致的諸多缺失及不便,而深入構思,且積極研究改良試做而開發設計出本創作。
實用新型內容
本實用新型的目的在于公開一種配向膜涂布檢測裝置,本實用新型旨在提供一種既能提高檢測率,又能降低漏檢率的配向膜涂布檢測裝置,以解決現有技術中的不足等問題。
為了解決上述技術問題,本實用新型的解決方案是:公開了一種配向膜涂布檢測裝置,包括涂布機臺、預烘烤機臺和光學檢查機,該預烘烤機臺包括給已涂布配向膜的待檢測基板加熱的加熱板,其特征在于,該預烘烤機臺還包括對待檢測基板檢測缺陷的基板檢測裝置;該基板檢測裝置包括設置在該待檢測基板上方的成像單元、與該成像單元和該加熱板連接的控制單元;該成像單元收集該待檢測基板在加熱中的膜面圖像并反饋給該控制單元,該控制單元控制該加熱板的溫度并根據該膜面圖像確定該待檢測基板中缺陷的位置。
優選地,該控制單元包括溫度控制單元、存儲單元、分析單元;該溫度控制單元根據待檢測基板的預烘烤溫度控制該加熱板的加熱溫度;該存儲單元用于存儲該待檢測基板在加熱中多個膜面圖像信息;該分析單元根據該膜面圖像來確定該待檢測基板中缺陷的位置。
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