[實用新型]切割過程的基板組件有效
| 申請號: | 201920257682.2 | 申請日: | 2019-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN209418483U | 公開(公告)日: | 2019-09-20 |
| 發明(設計)人: | 黃才漢;魏嵐;吳薛平;陳友三 | 申請(專利權)人: | 廈門信達光電物聯科技研究院有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L33/00 |
| 代理公司: | 廈門市首創君合專利事務所有限公司 35204 | 代理人: | 楊依展;張迪 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 低粘度 光學膜 基板 基板組件 切割過程 切割面 貼合面 本實用新型 真空工作臺 基板接觸 簡化基板 切割軌跡 貼合 切割 應用 | ||
【權利要求書】:
1.一種切割過程的基板組件,其特征在于,所述基板組件包括基板及低粘度光學膜;所述低粘度光學膜包括貼合面,所述基板包括切割面,所述切割面上具有切割軌跡;所述低粘度光學膜的貼合面貼合所述基板的切割面;所述低粘度光學膜的面積大于所述基板的面積;所述低粘度光學膜不與所述基板接觸的邊緣部分貼合一真空工作臺設置。
2.根據權利要求1所述的切割過程的基板組件,其特征在于,所述低粘度光學膜具有一定透明度。
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廈門信達光電物聯科技研究院有限公司,未經廈門信達光電物聯科技研究院有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201920257682.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種集成電路板的封裝設備
- 下一篇:一種芯片的扇出型封裝結構
- 同類專利
- 專利分類
H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





