[實用新型]磁控濺射靶

有效

• 申請號: 201920255138.4
• 申請日: 2019-02-28
• 公開（公告）號: CN210104059U
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發明（設計）人: 劉洋;汪振南;見東偉;楊永雷
• 申請（專利權）人: 領凡新能源科技（北京）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京智晨知識產權代理有限公司 11584
• 代理人: 張婧

1.一種磁控濺射靶，其特征在于，包括靶頭(1)、靶芯主體(14)、靶材筒(6)，所述靶芯主體(14)容置在所述靶材筒(6)內，所述靶頭(1)與所述靶芯主體(14)連接；

所述磁控濺射靶還包括：冷卻結構，所述靶頭(1)上設有第一口(28)和第二口(29)，所述冷卻結構包括相互連通的第一腔(26)和第二腔(13)，所述第一腔(26)位于所述靶芯主體(14)內部，所述第二腔(13)位于所述靶材筒(6)與所述靶芯主體(14)之間，所述第一腔(26)與所述靶頭(1)上的所述第一口(28)連通，所述第二腔(13)與所述靶頭(1)上的所述第二口(29)連通。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述第一口(28)為出液口(281)，所述第二口(29)為進液口(291)。

3.根據權利要求2所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述靶芯主體(14)上設有孔(11)，所述第一腔(26)與所述第二腔(13)通過所述孔(11)連通。

4.根據權利要求3所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述靶芯主體(14)包括靶基座(2)和靶面體(3)，所述靶基座(2)和所述靶面體(3)之間圍成所述第一腔(26)，所述靶頭(1)與所述靶基座(2)可拆卸地連接，所述孔(11)設置于所述靶面體(3)。

5.根據權利要求4所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述冷卻結構還包括設于靶基座(2)內的第一進液通道(25)和槽孔(24)，

所述第一進液通道(25)與所述靶頭(1)的出液口(281)連通，所述第一進液通道(25)通過所述槽孔(24)與所述第一腔(26)連通。

6.根據權利要求5所述的磁控濺射靶，其特征在于，

沿所述靶基座(2)的長度方向，所述第一進液通道(25)貫穿所述靶基座(2)。

7.根據權利要求6所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述冷卻結構還包括設于所述靶基座(2)內的第一回液通道(27)，

所述第二腔(13)通過所述第一回液通道(27)與所述靶頭(1)上的進液口(291)連通。

8.根據權利要求7所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述磁控濺射靶還包括靶堵頭(4)，所述靶堵頭(4)與所述靶頭(1)分別設于所述靶基座(2)的兩端，所述靶堵頭(4)與所述靶基座(2)可拆卸地連接，所述靶堵頭(4)上設有回液孔(12)，所述回液孔(12)用于連通所述第二腔(13)和所述第一回液通道(27)。

9.根據權利要求8所述的磁控濺射靶，其特征在于，沿所述靶基座(2)的長度方向，所述第一回液通道(27)貫通所述靶基座(2)以與所述回液孔(12)連通。

10.根據權利要求5所述的磁控濺射靶，其特征在于，

所述孔(11)的數量為多個，多個所述孔(11)設于所述靶面體(3)上背離所述靶頭(1)的一端；和/或，

所述槽孔(24)為長方體，且所述槽孔(24)的數量為多個，多個所述槽孔(24)沿所述靶基座(2)的長度方向設置。

11.根據權利要求2-10任一項所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述冷卻結構還包括設于所述靶頭(1)內的第二進液通道(9)和第二回液通道(10)，所述第二進液通道(9)與所述出液口(281)連通，所述第二回液通道(10)與所述進液口(291)連通。

12.根據權利要求1-10任一項所述的磁控濺射靶，其特征在于，還包括冷卻液供給裝置，所述靶頭(1)一端的端頭上設有連接螺紋(7)，所述靶頭(1)通過所述連接螺紋(7)與所述冷卻液供給裝置連接，所述靶頭(1)設有連接螺紋(7)的一端的端面上設有定位凸塊(8)，所述定位凸塊(8)用于對所述靶頭(1)和所述冷卻液供給裝置連接前進行定位。

13.根據權利要求1-10任一項所述的磁控濺射靶，其特征在于，所述磁控濺射靶還包括密封部件，所述靶材筒(6)的一端設有開口，所述靶頭(1)的一端從所述開口中伸出，所述密封部件設于所述靶頭(1)伸出所述靶材筒(6)的部分上，所述密封部件用于密封所述開口與所述靶頭(1)之間的間隙。