[實(shí)用新型]一種可吹掃的黑硅制絨裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920240563.6 | 申請日: | 2019-02-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209526072U | 公開(公告)日: | 2019-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫鵬;鄭守春;張良;唐駿;席珍強(qiáng);余剛 | 申請(專利權(quán))人: | 鎮(zhèn)江仁德新能源科技有限公司;鎮(zhèn)江榮德新能源科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陳國強(qiáng) |
| 地址: | 212200 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 脫水槽 硅片 氣體通孔 機(jī)械臂 晶片籃 槽體 吹掃 本實(shí)用新型 壓縮空氣 制絨裝置 黑硅 體內(nèi) 槽體側(cè)壁 槽體內(nèi)部 頂部設(shè)置 氣液界面 上下運(yùn)動(dòng) 殘余的 液液面 預(yù)脫水 吹干 烘干 噴入 水中 下段 粘黏 脫水 開口 穿過 | ||
1.一種可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:包括機(jī)械臂(1)、預(yù)脫水槽槽體(2)和晶片籃(3),所述預(yù)脫水槽槽體(2)的頂部設(shè)置有開口,所述預(yù)脫水槽槽體(2)內(nèi)盛有純水液(5),位于純水液(5)液面以上的預(yù)脫水槽槽體(2)側(cè)壁上安裝有氣體通孔(8),氣流(10)自預(yù)脫水槽槽體(2)外穿過若干個(gè)氣體通孔(8)吹向預(yù)脫水槽槽體(2)內(nèi)部,所述機(jī)械臂(1)的下段連接有晶片籃(3),所述晶片籃(3)內(nèi)放置若干塊硅片(4),所述機(jī)械臂(1)帶動(dòng)晶片籃(3)上下運(yùn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述預(yù)脫水槽槽體(2)的側(cè)壁上設(shè)置有若干個(gè)氣體吹掃蓋板安裝口(6),每個(gè)氣體吹掃蓋板安裝口(6)上均安裝有氣體吹掃蓋板(7),每個(gè)氣體吹掃蓋板(7)上設(shè)置有若干個(gè)氣體通孔(8)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述氣體吹掃蓋板安裝口(6)位于純水液(5)液面以上0.5-3cm處的預(yù)脫水槽槽體(2)側(cè)壁上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述氣體吹掃蓋板(7)上的氣體通孔(8)分為3種,分別是水平通孔、斜向上通孔和斜向下通孔,其中:水平通孔的孔內(nèi)壁與純水液(5)液面平行,氣體經(jīng)過水平通孔,水平吹入預(yù)脫水槽槽體(2)內(nèi)部,斜向上通孔的孔內(nèi)壁相較于純水液(5)液面傾斜向上,氣體經(jīng)過斜向上通孔,向上吹入預(yù)脫水槽槽體(2)內(nèi)部,斜向下通孔的孔內(nèi)壁相較于純水液(5)液面傾斜向下,氣體經(jīng)過斜向下通孔,向下吹入預(yù)脫水槽槽體(2)內(nèi)部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述氣體吹掃蓋板(7)上自上而下依次設(shè)置斜向上通孔、水平通孔和斜向下通孔,斜向上通孔為若干個(gè),呈陣列式排布,所述水平通孔為若干個(gè),呈陣列式排布,所述斜向下通孔為若干個(gè),呈陣列式排布。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述斜向上通孔的延長線與水平通孔的延長線呈15-45°夾角,所述斜向下通孔的延長線與水平通孔的延長線呈15-45°夾角。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述機(jī)械臂(1)包括4根機(jī)械桿(11),4根機(jī)械桿(11)兩兩為一組,每組機(jī)械桿(11)分別與晶片籃(3)相對(duì)的兩個(gè)側(cè)壁連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述氣體吹掃蓋板(7)上位于預(yù)脫水槽槽體(2)側(cè)壁外側(cè)的一端連接有氣體吹掃蓋檐(12),氣體吹掃蓋板(7)置于氣體吹掃蓋板安裝口(6)內(nèi),氣體吹掃蓋檐(12)的內(nèi)側(cè)貼于預(yù)脫水槽槽體(2)側(cè)壁外側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述氣體吹掃蓋板安裝口(6)與氣體吹掃蓋板(7)過盈配合。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可吹掃的黑硅制絨裝置,其特征在于:所述預(yù)脫水槽槽體(2)外,位于氣體吹掃蓋板(7)的外側(cè),設(shè)置有吹風(fēng)裝置,吹風(fēng)裝置吹動(dòng)氣體穿過若干個(gè)氣體通孔(8)吹向預(yù)脫水槽槽體(2)內(nèi)的硅片(4)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





