[實用新型]一種無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置

有效

• 申請號: 201920206574.2
• 申請日: 2019-02-18
• 公開（公告）號: CN209248251U
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發明（設計）人: 薛榮
• 申請（專利權）人: 麥佧仕光電科技(上海)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 成都明濤智創專利代理有限公司 51289
• 代理人: 丁國勇

本實用新型公開了一種無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置，屬于光刻機領域，其技術方案要點是，一種無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置，包括激光調節頭和調節手柄，所述激光調節頭的輸出端連接有激光傳輸頭，所述激光傳輸頭的輸出端連接有聚焦頭；通過溫度傳感器可實時監測激光傳輸頭的溫度，在進行光刻時，高壓氣體始終作用在光刻部位，高壓氣體將光刻部位表面的灰塵吹離，使得光刻的精度及質量進一步提高，同時高壓氣體通過連接管輸送至冷卻管，通過冷卻管對激光傳輸頭進行持續降溫，且高壓氣體通過環形管上的氣體噴口噴出，可將激光雕刻產生的煙塵吹離，保證激光的通過性，降低激光能量的損耗。

技術領域

本實用新型涉及光刻機領域，特別涉及一種無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置。

背景技術

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等，光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。

現有的技術存在以下問題：

1、現有的無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置均無清除灰塵裝置，在進行光刻時，光刻部位的細微灰塵及雜質，導致光刻的深度及范圍發生變化，嚴重影響光刻的精度及質量。

2、現有的無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置均無清除煙塵裝置，在進行光刻時，光刻部位會產生煙塵，煙塵飄散遮擋激光的路徑，導致激光的能將降低，影響光刻質量。

實用新型內容

本實用新型提供一種無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置，旨在解決現有的灰塵阻擋及煙塵降低激光能量的問題。

本實用新型是這樣實現的，一種無掩膜光刻機的激光均勻性調制裝置，包括激光調節頭和調節手柄，所述激光調節頭的輸出端連接有激光傳輸頭，所述激光傳輸頭的輸出端連接有聚焦頭，所述調節手柄連接于所述激光傳輸頭的側壁，包括溫度傳感器和連接座，所述溫度傳感器固定連接于所述激光傳輸頭的外壁，所述連接座固定連接于所述激光調節頭的外壁，所述連接座的出氣端固定連接有輸送管，所述輸送管的另一端固定連接有高速噴頭，所述連接座的出氣端固定連接有連接管，所述激光傳輸頭的夾層內繞設有冷卻管，所述連接管與所述冷卻管的一端固定連接，所述激光傳輸頭的外壁底端固定連接有環形管，所述冷卻管的出氣端與所述環形管的進氣端固定連接，所述溫度傳感器與光刻機控制器信號連接，所述溫度傳感器與外部電源電性連接。

優選的，所述連接座的側壁固定連接有開關，所述連接座的頂端固定連接有輸氣管。

優選的，所述輸送管位于所述連接座的底端，且所述輸送管可進行角度調節。

優選的，所述連接管位于所述連接座的一側，且所述連接管、所述冷卻管和所述環形管的材質均為銅。

優選的，所述冷卻管繞設與所述激光傳輸頭的夾層靠近所述聚焦頭的位置處，且所述冷卻管的頂端位于所述調節手柄的下方。

優選的，所述溫度傳感器固定連接于所述激光傳輸頭設有所述冷卻管一端的外壁。

優選的，所述環形管的外壁開設有氣體噴口，所述氣體噴口的數量為若干個均勻分布在所述環形管的一周。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

1、在激光的作用下，調制裝置工作時會產生大量的熱，通過溫度傳感器可實時監測激光傳輸頭的溫度，并進行信號轉化傳輸至光刻機的控制中心，在進行光刻時，通過調整輸送管，將高速噴頭對準光刻部位，高壓氣體始終作用在光刻部位，高壓氣體將光刻部位表面的灰塵吹離，使得光刻的精度及質量進一步提高。

2、在設備進行光刻工作時，同時高壓氣體通過連接管輸送至冷卻管，通過冷卻管對激光傳輸頭進行持續降溫，且高壓氣體通過環形管上的氣體噴口噴出，可將激光雕刻產生的煙塵吹離，保證激光的通過性，降低激光能量的損耗。