[實用新型]一種磁控濺射靶槍

有效

• 申請號: 201920164909.9
• 申請日: 2019-01-30
• 公開（公告）號: CN210560702U
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: 陳麗娜;劉榮華;都有為
• 申請（專利權）人: 南京大學深圳研究院
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 唐紹焜

1.一種磁控濺射靶槍，其特征在于：包括基座（1）、絕緣板（2）和磁靶（3）；所述磁靶（3）設置在所述基座（1）上，所述絕緣板（2）安裝在所述基座（1）與所述磁靶（3）之間；

所述基座（1）包括無氧銅水冷頭、不銹鋼管（9）以及法蘭（8）；所述法蘭（8）焊接在所述不銹鋼管（9）中部位置，所述不銹鋼管（9）的底部連接有冷卻水進水口（5），在所述不銹鋼管（9）的側面位于所述法蘭（8）下方位置設置有冷卻水出水口（6）；所述法蘭（8）為圓環形結構，所述不銹鋼管（9）穿過所述法蘭（8）；在所述法蘭（8）上設置有真空電極（7），所述真空電極（7）下端連接高壓電源；在所述不銹鋼管（9）頂部焊接有無氧銅水冷頭，在所述無氧銅水冷頭設有若干通孔，在所述通孔中穿有螺絲桿（17），所述螺絲桿（17）與所述通孔之間通過陶瓷絕緣端子（18）絕緣；其中一所述螺絲桿（17）與所述法蘭（8）上設置的所述真空電極（7）上端通過導線（10）連接；

所述磁靶（3）包括磁靶基座（13）、永磁體組（14）及靶材（15）；所述磁靶基座（13）由圓柱形的無氧銅加工而成，在所述磁靶基座（13）內設有若干用于容納用磁鐵的凹槽，所述凹槽分布在所述磁靶基座（13）中心位置以及圍繞所述中心位置的圓周上；永磁鐵設置在所述凹槽內，形成中心一個加外面一圈的永磁鐵組成的永磁體組（14）；所述靶材（15）設置在所述永磁體組（14）上方；在所述磁靶基座（13）下端設有內螺紋孔（19），在所述絕緣板（2）上設有相應的通孔，所述螺絲桿（17）穿過所述陶瓷絕緣端子（18）、無氧銅水冷頭和絕緣板（2），固定在所述磁靶基座（13）的內螺紋孔（19）上。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：所述無氧銅水冷頭包括無氧銅冷頭（11）和無氧銅連接件（12）兩部分；所述無氧銅冷頭（11）為上端封閉的圓筒形結構，所述不銹鋼管（9）頂部與所述無氧銅冷頭（11）密封焊接；在所述無氧銅冷頭（11）上套設所述無氧銅連接件（12），所述無氧銅連接件（12）為上端封閉的圓筒形結構，在所述無氧銅連接件（12）頂部橫向向外延伸形成連接階梯，在所述連接階梯上均勻設有若干通孔，其上設置有螺絲桿（17）；其中一螺絲桿（17）與所述法蘭（8）上設置的真空電極（7）上端通過導線（10）連接。

3.根據權利要求2所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：所述無氧銅冷頭（11）和無氧銅連接件（12）為分開兩部分或一體化成型，形成所述無氧銅水冷頭。

4.根據權利要求1所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：所述無氧銅水冷頭為一體圓筒形結構，所述不銹鋼管（9）頂部與所述無氧銅水冷頭密封焊接；在所述無氧銅水冷頭頂部橫向向外延伸形成連接階梯，在所述連接階梯上均勻設有若干通孔，其上設置有螺絲桿（17）；其中一螺絲桿（17）與所述法蘭（8）上設置的真空電極（7）上端通過導線（10）連接。

5.根據權利要求2所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：在所述磁靶基座（13）下端設有一圈內螺紋孔（19），在所述絕緣板（2）上設有相應的通孔，所述螺絲桿（17）通過陶瓷絕緣端子（18），穿過所述無氧銅連接件（12）和所述絕緣板（2），固定在所述磁靶基座（13）的內螺紋孔（19）上，將所述基座（1）、所述絕緣板（2）和所述磁靶（3）三部分連接成一體。

6.根據權利要求1所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：在所述磁靶（3）上還設有靶罩（4），所述靶罩（4）為不銹鋼靶罩。

7.根據權利要求1所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：在所述靶材（15）上方還設有用于將所述靶材固定在所述永磁體組（14）上的靶材固定件（16）。

8.根據權利要求1所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：所述法蘭（8）采用不銹鋼CF類型接口法蘭、 KF法蘭或者ISO法蘭。

9.根據權利要求1所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：所述磁靶基座（13）由圓柱形的無氧銅加工而成。

10.根據權利要求1所述的磁控濺射靶槍，其特征在于：在所述不銹鋼管（9）內設置有冷卻水管，所述冷卻水管的頂端低于所述不銹鋼管（9）頂端。