[實用新型]掩膜板異物檢測設備

有效

• 申請號: 201920158639.0
• 申請日: 2019-01-29
• 公開（公告）號: CN209263906U
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 彭兆基;蔣明華
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;G01N21/95;G01N21/956;G01N21/01
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 成珊

本實用新型提供了一種掩膜板異物檢測設備，包括：承接平臺，用于放置掩膜板；檢測裝置，設置于所述承接平臺所在平面的上方，通過在掩膜板的被檢測面區域移動以檢測掩膜板上是否存在異物。通過設置于掩膜板的上方的檢測裝置檢測掩膜板上的異物，檢測裝置在平行于被檢測面區域的上方移動以檢測突出掩膜板的異物，避免了將掩膜板壓延痕誤判為異物，提高了異物檢測精度。

技術領域

本實用新型涉及半導體領域，具體涉及一種掩膜板異物檢測設備。

背景技術

掩膜板在制造過程中會在表面上殘留異物，如果掩膜板上殘留的異物高度過高時，蒸鍍的時候會形成彩斑異常，嚴重影響掩膜板的質量。現有技術中通常使用低角度側光源或者環形光源進行檢測，掩膜板在制造過程中不可避免地存在壓延痕，而在檢測過程中，由于反光等原因將這些凹凸痕誤判為異物，使得異物檢測精度低。

實用新型內容

因此，本實用新型要解決的技術問題在于克服現有技術中掩膜板異物檢測精度低的缺陷。

為此，本實用新型提供如下技術方案：

本實用新型提供一種掩膜板異物檢測設備，包括：承接平臺，用于放置掩膜板；檢測裝置，設置于所述承接平臺所在平面的上方，通過在掩膜板的被檢測面區域移動以檢測所述掩膜板上是否存在異物。

可選地，所述檢測裝置包括：至少一個第一激光測高儀，設置在第一移動裝置上并可沿著所述被檢測面的橫坐標移動，并朝向所述掩膜板發射第一激光，檢測突出于所述被檢測面上的異物。

可選地，所述第一移動裝置設置在高度調節裝置上，通過所述高度調節裝置調節所述第一激光與所述被檢測面之間的距離。

可選地，所述檢測裝置還包括：至少一個第二激光測高儀，設置在第二移動裝置上并可沿著所述被檢測面的縱坐標移動，并朝向所述掩膜板發射第二激光，所述第二激光和所述第一激光相互垂直，所述檢測裝置通過在掩膜板的被檢測面區域移動用以檢測所述掩膜板上異物的位置信息。

可選地，所述第二移動裝置設置在高度調節裝置上，通過所述高度調節裝置調節所述第二激光與所述被檢測面之間的距離。

可選地，所述第一激光測高儀和所述第二激光測高儀的移動路徑分別與所述掩膜板上預設的X軸和Y軸平行。

可選地，所述承接平臺的上表面尺寸與所述掩膜板的尺寸相同。

可選地，所述承接平臺為柱形，所述承接平臺的側壁卡入掩膜板框架內，所述掩膜板框架用于固定所述掩膜板。

可選地，還包括：攝像裝置，設置于所述掩膜板的上方區域，用于對所述掩膜板上的所述異物進行拍照。

可選地，所述攝像裝置為工業照相機。

本實用新型技術方案，具有如下優點：

1.本實用新型提供的掩膜板異物檢測設備，包括：承接平臺，用于放置掩膜板；檢測裝置，設置于所述承接平臺所在平面的上方，通過在掩膜板的被檢測面區域移動以檢測所述掩膜板上是否存在異物。通過設置于掩膜板的上方的檢測裝置檢測掩膜板上的異物，檢測裝置在平行于被檢測面區域的上方移動以檢測突出掩膜板的異物，避免了將掩膜板壓延痕誤判為異物，提高了異物檢測精度。

2.本實用新型提供的掩膜板異物檢測設備，上述檢測裝置包括：至少一個第一激光測高儀，設置在第一移動裝置上并可沿著所述被檢測面的橫坐標移動，并朝向所述掩膜板發射第一激光，檢測突出于所述被檢測面上的異物。第一激光測高儀發射的第一激光朝向掩膜板，并且第一激光平行于掩膜板，第一激光測高儀在第一移動裝置上沿被檢測面的橫坐標移動，在移動的過程中如檢測到異物第一激光被阻斷，因此便可檢測出突出掩膜板的異物，檢測過程簡單易操作。