[實用新型]掩膜板異物檢測設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920158639.0 | 申請日： | 2019-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN209263906U | 公開（公告）日： | 2019-08-16 |
| 發(fā)明（設計）人： | 彭兆基;蔣明華 | 申請（專利權(quán)）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/06 | 分類號： | G01B11/06;G01N21/95;G01N21/956;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人： | 成珊 |
| 地址： | 065500 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 掩膜板 異物 檢測裝置 異物檢測設備 被檢測面 承接平臺 檢測 本實用新型 壓延 區(qū)域移動 上方移動 所在平面 異物檢測 誤判 平行 | ||
1.一種掩膜板異物檢測設備，其特征在于，包括：
承接平臺，用于放置掩膜板；
檢測裝置，設置于所述承接平臺所在平面的上方，通過在掩膜板的被檢測面區(qū)域移動以檢測所述掩膜板上是否存在異物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述檢測裝置包括：
至少一個第一激光測高儀，設置在第一移動裝置上并可沿著所述被檢測面的橫坐標移動，并朝向所述掩膜板發(fā)射第一激光，檢測突出于所述被檢測面上的異物。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述第一移動裝置設置在高度調(diào)節(jié)裝置上，通過所述高度調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)所述第一激光與所述被檢測面之間的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述檢測裝置還包括：
至少一個第二激光測高儀，設置在第二移動裝置上并可沿著所述被檢測面的縱坐標移動，并朝向所述掩膜板發(fā)射第二激光，所述第二激光和所述第一激光相互垂直，所述檢測裝置通過在掩膜板的被檢測面區(qū)域移動用以檢測所述掩膜板上異物的位置信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述第二移動裝置設置在高度調(diào)節(jié)裝置上，通過所述高度調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)所述第二激光與所述被檢測面之間的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述第一激光測高儀和所述第二激光測高儀的移動路徑分別與所述掩膜板上預設的X軸和Y軸平行。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述承接平臺的上表面尺寸與所述掩膜板的尺寸相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述承接平臺為柱形，所述承接平臺側(cè)壁卡入掩膜板框架內(nèi)，所述掩膜板框架用于固定所述掩膜板。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，還包括：
攝像裝置，設置于所述掩膜板的上方區(qū)域，用于對所述掩膜板上的所述異物進行拍照。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩膜板異物檢測設備，其特征在于，所述攝像裝置為工業(yè)照相機。
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