[實用新型]一種矽晶片吹砂裝置

有效

• 申請號: 201920124803.6
• 申請日: 2019-01-23
• 公開（公告）號: CN209452414U
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: 范群意
• 申請（專利權）人: 佛山市南海益晶科技有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02
• 代理公司: 武漢明正專利代理事務所(普通合伙) 42241
• 代理人: 張伶俐

本實用新型公開了一種矽晶片吹砂裝置，立架固定于基板的其中一側邊，立架的上端設置有兩個間隔分布的第一滑軌，第一滑塊滑動連接于第一滑軌，第一滑塊的上部設置有兩個間隔分布的第二滑軌，第二滑塊滑動連接于第二滑軌，空氣泵安裝于第二滑塊的上端，氣嘴安裝于第二滑塊的下端部，空氣泵通過連接管連通于氣嘴。本實用新型有益效果：本實用新型設置有第一滑軌、第二滑軌、第一滑塊、第二滑塊、空氣泵、連接管和氣嘴，空氣泵產生的空氣通過連接管從氣嘴吹出，對矽晶片進行吹砂，將矽晶片的砂粒吹走，保證了矽晶片的工藝制作精度和質量，第一滑塊可沿著第一滑軌縱向移動，第二滑塊可沿著第二滑軌橫向移動。

技術領域

本實用新型涉及電子元件技術領域,尤其是一種矽晶片吹砂裝置。

背景技術

矽晶片是制作集成電路的重要材料，通過對硅片進行光刻、離子注入等手段，可以制成各種半導體器件，利用硅片制成的芯片有著驚人的運算能力，科學技術的發展不斷推動著半導體、自動化和計算機等技術的發展，硅片的應用非常廣泛，涉及航空航天、工業、農業和國防等多個領域。

矽晶片的制作工藝復雜，對其質量要求較高，制作過程中需要研磨，即研磨過程中矽晶片表面有細砂，需要對細砂清除掉，不然會影響工藝制作精度和質量。

因此，對于上述問題有必要提出一種矽晶片吹砂裝置。

實用新型內容

針對上述現有技術中存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種矽晶片吹砂裝置。

一種矽晶片吹砂裝置，包括基板、立架、第一滑軌、第二滑軌、第一滑塊、第二滑塊、空氣泵、連接管和氣嘴，所述立架固定于所述基板的其中一側邊，所述立架的上端設置有兩個間隔分布的所述第一滑軌，所述第一滑塊滑動連接于所述第一滑軌，所述第一滑塊的上部設置有兩個間隔分布的所述第二滑軌，所述第二滑塊滑動連接于所述第二滑軌，所述空氣泵安裝于所述第二滑塊的上端，所述氣嘴安裝于所述第二滑塊的下端部，所述空氣泵通過連接管連通于所述氣嘴。

與現有技術相比，本實用新型有益效果：本實用新型設置有第一滑軌、第二滑軌、第一滑塊、第二滑塊、空氣泵、連接管和氣嘴，空氣泵產生的空氣通過連接管從氣嘴吹出，對矽晶片進行吹砂，將矽晶片的砂粒吹走，保證了矽晶片的工藝制作精度和質量，第一滑塊可沿著第一滑軌縱向移動，第二滑塊可沿著第二滑軌橫向移動。

進一步的，所述氣嘴的下部設置有三個不同方向的噴管。

采用進一步的技術方案有益效果：不同方向的噴管，可對矽晶片向不同方向吹砂。

進一步的，所述立架的一端安裝有第一氣缸，所述第一氣缸的輸出端固定于所述第一滑塊。

采用進一步的技術方案有益效果：第一氣缸驅動第一滑塊移動。

進一步的，所述第一滑塊的其中一端安裝有第二氣缸，所述第二氣缸的輸出端固定于所述第二滑塊。

采用進一步的技術方案有益效果：第二氣缸驅動第二滑塊。

進一步的，所述基板上安裝有旋轉電機，所述旋轉電機的輸出端安裝有吸盤組件，所述吸盤組件上設置有多個吸盤。

采用進一步的技術方案有益效果：旋轉電機驅動吸盤組件旋轉，吸盤用于吸住矽晶片。

進一步的，所述吸盤組件連通有負壓泵，所述第一氣缸和第二氣缸均連通有氣泵。

采用進一步的技術方案有益效果：負壓泵為吸盤組件提供負壓力，氣泵分別為第一氣缸和第二氣缸提供氣源。

進一步的，所述空氣泵、負壓泵、氣泵和旋轉電機均電連接有控制器。

采用進一步的技術方案有益效果：控制器控制空氣泵、負壓泵、氣泵和旋轉電機工作可提高工作效率。

附圖說明