[實用新型]一種在精密測長儀中測量高解析面板的標記結構

有效

• 申請號: 201920104675.9
• 申請日: 2019-01-22
• 公開（公告）號: CN209342051U
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 福建華佳彩有限公司
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務所(普通合伙) 35219
• 代理人: 黃以琳;林祥翔

本實用新型提供一種在精密測長儀中測量高解析面板的標記結構，包括多個最小標記單元，所述最小標記單元為正方形，多個最小標記單元聚集排列，每一個最小標記單元都至少與一個最小標記單元相鄰，相鄰的最小標記單元的相鄰的邊為重合狀態，所述最小標記單元的數量為一自然數的平方，多個最小標記單元的行數與該自然數相同，多個最小標記單元的首行數量和末行數量不相同。區別于現有技術，上述技術方案通過對標記結構的改變，使得標記結構在像素點間距較小的時候，精密測長儀都還能自動測量。

技術領域

本實用新型涉及像素測量標記結構技術領域，尤其涉及一種在精密測長儀中測量高解析面板的標記結構。

背景技術

為了適應未來高解析產品的需求,顯示器高像素密度(PPI)下的基板像素點間距(sub pixel pitch)勢必會越來越小。目前CF廠(顯示器廠)的量產品RGB(R代表紅色色層，G代表綠色色層)色層基板像素點間距約為30um,測量(Test key)中色層位置標記結構(CRVmark)的設計為20um*20um方型(參考圖1),而未來面板在高解析設計下像素點間距將更小與更近,在考慮標記結構太小會剝離(peeling)的狀況，因此無法設計的更小,而在RGB3個色層共用光罩情況下,各色層基板像素點間距如果小于20um,標記結構會發生重迭的狀況，如圖2的1處,使精密測長儀(TTP)難以辨別導致測量錯誤(如圖2)。

實用新型內容

為此，需要提供一種在精密測長儀中測量高解析面板的標記結構，解決像素點間距過小時精密測長儀無法測量的問題。

為實現上述目的，發明人提供了一種在精密測長儀中測量高解析面板的標記結構，包括多個最小標記單元，所述最小標記單元為正方形，多個最小標記單元聚集排列，每一個最小標記單元都至少與一個最小標記單元相鄰，相鄰的最小標記單元的相鄰的邊為重合狀態，所述最小標記單元的數量為一自然數的平方，多個最小標記單元的行數與該自然數相同，多個最小標記單元的首行數量和末行數量不相同。

進一步地，所述多個最小標記單元組成的圖形為左右對稱圖形。

進一步地，每一行的最小標記單元數量依次變大。

進一步地，所述自然數為4。

進一步地，所述最小標記單元的長寬都為5um。

區別于現有技術，上述技術方案通過對標記結構的改變，使得標記結構在像素點間距較小的時候，精密測長儀都還能自動測量。

附圖說明

圖1為背景技術所述的標記結構的結構示意圖；

圖2為背景技術所述的精密測長儀的測量示意圖；

圖3為現有技術的結構與本實用新型的一實施例的標記結構對比示意圖；

圖4為本實用新型用在精密測長儀的測量示意圖。

具體實施方式

為詳細說明技術方案的技術內容、構造特征、所實現目的及效果，以下結合具體實施例并配合附圖詳予說明。