[實用新型]一種等離子體刻蝕裝置及其擴散裝置

有效

• 申請號: 201920083740.4
• 申請日: 2019-01-17
• 公開（公告）號: CN209312713U
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發明（設計）人: 周騰;邱克強;劉正坤;徐向東;洪義麟;付紹軍
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 徐麗;李海建

本實用新型公開了一種等離子體刻蝕裝置及其擴散裝置，其特征在于，包括：中空的端口放大裝置(1)，所述端口放大裝置(1)的進口端用于與等離子體源輸出端密封連接，所述端口放大裝置(1)的進口的面積小于出口的面積；柵欄(5)，所述柵欄(5)安裝在所述端口放大裝置(1)的出口端，且與所述出口相對。通過設置端口放大裝置可在一定程度上增大小型等離子體發生器形成的等離子體區域。本實用新型還公開了一種具有上述等離子體擴散裝置的等離子體刻蝕裝置。

技術領域

本實用新型涉及等離子體的技術領域，特別涉及一種等離子體刻蝕裝置及其擴散裝置。

背景技術

等離子體刻蝕技術在衍射光學、集成電路、芯片、顯示屏、建筑等領域有著廣泛應用。等離子體刻蝕首先通過射頻、微波、直流高壓等激勵源將反應氣體電離，再通過磁場及電場加速帶電粒子，轟擊物件表面，實現對物件表面物質或結構的均勻刻蝕。以芯片行業為例，等離子體刻蝕常被用來刻蝕半導體基片(如硅)或者涂覆其上的光刻膠等有機材料。對于小于300mm(對應12inch)直徑晶圓或薄基底，已有成熟的等離子體刻蝕設備。隨著使用需求的增加，在顯示屏、光柵等領域需要對尺寸大于800mm，甚至大于1000mm的基底進行等離子體刻蝕，一般小型等離子體發生器所直接產生等離子體面積無法達到使用要求。

如何使用小口徑等離子體源，實現對超出現有方法和設備尺寸多得多的基底的等離子體刻蝕，并且保證大尺寸范圍內的均勻性或深度可控性，成為了大型顯示屏和大口徑光柵發展的一個重要問題。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種等離子體擴散裝置，以增大小型等離子體發生器形成的等離子體區域。此外，本實用新型的另一目的在于提供一種具有上述等離子體擴散裝置的等離子體刻蝕裝置。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種等離子體擴散裝置，其包括：

中空的端口放大裝置，所述端口放大裝置的進口端用于與等離子體源輸出端密封連接，所述端口放大裝置的進口的面積小于出口的面積；

柵欄，所述柵欄安裝在所述端口放大裝置的出口端，且與所述出口相對。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，所述端口放大裝置的進口與所述等離子體源輸出端的端口大小相同，且所述端口放大裝置的進口向所述端口放大裝置的出口漸擴。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，還包括具有與所述端口放大裝置的出口大小相同的第一通孔的擋板，所述擋板與所述端口放大裝置的出口端密封可拆卸連接，且所述第一通孔與所述出口相對，所述柵欄安裝在所述擋板上。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，所述擋板與所述端口放大裝置通過氟橡膠圈密封連接。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，還包括：

安裝在所述擋板上的襯板，所述襯板具有與所述第一通孔相對且大小相同的第二通孔；

壓板，所述壓板與所述襯板相連，所述柵欄可拆卸的安裝在所述襯板與所述壓板之間。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，所述襯板與所述壓板通過緊定螺釘連接。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，所述柵欄通過鎖緊螺釘固定在所述襯板與所述壓板之間。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，所述柵欄為石墨條。

優選的，上述的等離子體擴散裝置中，所述石墨條的兩個側面均為階梯式結構，且相鄰的所述石墨條的側面能夠搭接配合。

一種等離子體刻蝕裝置，包括等離子體源，其還包括上述任一項所述等離子體擴散裝置。