[實(shí)用新型]一種等離子體刻蝕裝置及其擴(kuò)散裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920083740.4 | 申請日： | 2019-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN209312713U | 公開（公告）日： | 2019-08-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周騰;邱克強(qiáng);劉正坤;徐向東;洪義麟;付紹軍 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐麗;李海建 |
| 地址： | 230026 安*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 放大裝置 等離子體刻蝕裝置 本實(shí)用新型 擴(kuò)散裝置 柵欄 等離子體發(fā)生器 等離子體擴(kuò)散 等離子體區(qū)域 等離子體源 密封連接 出口端 進(jìn)口端 輸出端 中空的 出口 進(jìn)口 | ||
1.一種等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，包括：
中空的端口放大裝置(1)，所述端口放大裝置(1)的進(jìn)口端用于與等離子體源輸出端密封連接，所述端口放大裝置(1)的進(jìn)口的面積小于出口的面積；
柵欄(5)，所述柵欄(5)安裝在所述端口放大裝置(1)的出口端，且與所述出口相對。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，所述端口放大裝置(1)的進(jìn)口與所述等離子體源輸出端的端口大小相同，且所述端口放大裝置(1)的進(jìn)口向所述端口放大裝置(1)的出口漸擴(kuò)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，還包括具有與所述端口放大裝置(1)的出口大小相同的第一通孔的擋板(2)，所述擋板(2)與所述端口放大裝置(1)的出口端密封可拆卸連接，且所述第一通孔與所述出口相對，所述柵欄(5)安裝在所述擋板(2)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，所述擋板(2)與所述端口放大裝置(1)通過氟橡膠圈(3)密封連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，還包括：
安裝在所述擋板(2)上的襯板(4)，所述襯板(4)具有與所述第一通孔相對且大小相同的第二通孔；
壓板(6)，所述壓板(6)與所述襯板(4)相連，所述柵欄(5)可拆卸的安裝在所述襯板(4)與所述壓板(6)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，所述襯板(4)與所述壓板(6)通過緊定螺釘連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，所述柵欄(5)通過鎖緊螺釘固定在所述襯板(4)與所述壓板(6)之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，所述柵欄(5)為石墨條。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的等離子體擴(kuò)散裝置，其特征在于，所述石墨條的兩個側(cè)面均為階梯式結(jié)構(gòu)，且相鄰的所述石墨條的側(cè)面能夠搭接配合。
10.一種等離子體刻蝕裝置，包括等離子體源，其特征在于，還包括如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述等離子體擴(kuò)散裝置。
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