[實用新型]一種晶圓背面邊緣區清洗設備

有效

• 申請號: 201920034201.1
• 申請日: 2019-01-09
• 公開（公告）號: CN209249434U
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發明（設計）人: 黃玉輝
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 余明偉

1.一種晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于，包括：

可旋轉承載臺，位于晶圓中心下方，用于固定支撐及旋轉所述晶圓；

噴嘴，設置于晶圓邊緣區下方或所述晶圓外側下方，用于向所述晶圓的背面邊緣區噴射清洗液，以清洗所述晶圓的背面邊緣區。

2.根據權利要求1所述的晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于：所述晶圓背面邊緣區清洗設備包括多個所述噴嘴，且各所述噴嘴與水平面之間具有相同的夾角，各所述噴嘴與所述晶圓下表面之間具有相同的距離。

3.根據權利要求2所述的晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于：所述噴嘴數量介于3～5個之間，所述噴嘴沿所述晶圓半徑方向排成一列。

4.根據權利要求3所述的晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于：所述噴嘴朝所述晶圓的內側傾斜，所述噴嘴與水平面之間的夾角介于45度～60度之間。

5.根據權利要求3所述的晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于：位于最外側的所述噴嘴在所述晶圓的投影范圍之外，且與所述晶圓側邊的水平距離介于80mm～120mm之間。

6.根據權利要求5所述的晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于：位于最外側的所述噴嘴與水平面之間的夾角C、位于最外側的所述噴嘴與所述晶圓的側邊的水平距離B、位于最外側的所述噴嘴與所述晶圓下表面之間的距離A之間的關系滿足：tanC＝A/B。

7.根據權利要求1所述的晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于：所述清洗液的種類包括去離子水，所述清洗液的壓強介于6MPa～10MPa之間，所述可旋轉承載臺的轉速介于40rpm/sec～50rpm/sec之間。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的晶圓背面邊緣區清洗設備，其特征在于：所述晶圓背面邊緣區清洗設備還包括閥門和增壓裝置；其中，所述閥門連接所述噴嘴，以控制所述噴嘴的開關；所述增壓裝置連接清洗液源，并與所述閥門相連接，所述增壓裝置用于對所述清洗液進行增壓處理。