[發明專利]一種檢測膜片式真空壓力計沉積物的裝置及其應用

在審

• 申請號: 201911425754.0
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111141813A
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 王迪;陳林;林琳;靳毅;郜晨希;劉瑞琪;遠雁;鄭旭;李超波;張心強
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所;川北真空科技（北京）有限公司
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62;G01L21/30;G01L27/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 方丁一

1.一種檢測膜片式真空壓力計沉積物的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

預處理腔室(1)，用于將所述膜片式真空壓力計中帶有沉積物的膜片表面進行預處理，去除雜質；

氣化腔室(2)，用于將膜片表面的沉積物氣化；

分析腔室(3)，所述分析腔室(3)與所述氣化腔室(2)連通，用于分析氣化后的沉積物氣體的組成成分。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣化腔室(2)中設置電子槍或離子注入裝置，所述電子槍或離子注入裝置用于轟擊膜片表面的沉積物，使該沉積物氣化。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣化腔室(2)中設置第一加熱裝置，所述第一加熱裝置用于轟擊膜片表面的沉積物，使該沉積物氣化。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述預處理腔室(1)中設置第二加熱裝置，所述第二加熱裝置用于去除水蒸氣。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括減壓裝置(4)，所述減壓裝置(4)設置于所述氣化腔室(2)與所述分析腔室(3)之間，用于對氣化后的沉積物氣體進行減壓。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述減壓裝置(4)包括流體通道和設置于同一平面上的N個不同直徑的孔或孔陣，該平面垂直于所述流體通道，N≥2。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述分析腔室(3)中設置質譜分析儀器。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述質譜分析儀器為磁偏轉質譜計、離子阱質譜計、四極質譜計、飛行時間質譜計中的一種。

9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述預處理腔室(1)、所述氣化腔室(2)、所述分析腔室(3)和所述減壓裝置(4)均設置相應的真空度。

10.一種利用權利要求1-9所述的裝置進行膜片式真空壓力計沉積物清除的應用。