[發(fā)明專利]一種檢測(cè)膜片式真空壓力計(jì)沉積物的裝置及其應(yīng)用

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911425754.0
• 申請(qǐng)日: 2019-12-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111141813A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王迪;陳林;林琳;靳毅;郜晨希;劉瑞琪;遠(yuǎn)雁;鄭旭;李超波;張心強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所;川北真空科技（北京）有限公司
• 主分類號(hào): G01N27/62
• 分類號(hào): G01N27/62;G01L21/30;G01L27/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 方丁一

本發(fā)明提供了一種檢測(cè)膜片式真空壓力計(jì)沉積物的裝置及其應(yīng)用，所述裝置包括：預(yù)處理腔室，用于將所述膜片式真空壓力計(jì)中帶有沉積物的膜片表面進(jìn)行預(yù)處理，去除雜質(zhì)；氣化腔室，用于將膜片表面的沉積物氣化；分析腔室，所述分析腔室與所述氣化腔室連通，用于分析氣化后的沉積物氣體的組成成分。實(shí)現(xiàn)對(duì)膜片式真空壓力計(jì)沉積物的成分進(jìn)行分析的目的。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及真空壓力計(jì)領(lǐng)域，具體涉及一種檢測(cè)膜片式真空壓力計(jì)沉積物的裝置及其應(yīng)用。

背景技術(shù)

膜片式真空壓力計(jì)由于測(cè)量精度高，重復(fù)性和穩(wěn)定性好，常用于需要精確測(cè)定和控制壓力的場(chǎng)合。但在氣體成分復(fù)雜，容易有沉積物的情況下，在測(cè)量過(guò)程中，沉積物沉積到膜片上，會(huì)導(dǎo)致膜片式真空壓力計(jì)的測(cè)量性能受到很大的影響。而針對(duì)不同成分的沉積物，通常需要有不同的預(yù)防措施和清除方法，但目前對(duì)沉積物的成分不完全明確，僅能通過(guò)理論分析推斷沉積物可能的成分，從而進(jìn)行預(yù)防和清除。

現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)沉積物進(jìn)行預(yù)防和清除，通常是在膜片式真空壓力計(jì)中設(shè)置防沉積結(jié)構(gòu)，將沉積物盡可能沉積在結(jié)構(gòu)中而不是膜片上。但該沉積結(jié)構(gòu)通常設(shè)置于流體進(jìn)入膜片式真空壓力計(jì)的通道上，這樣，沉積結(jié)構(gòu)大幅改變了氣體流動(dòng)的路徑，不可避免會(huì)對(duì)氣體流態(tài)產(chǎn)生影響，進(jìn)而影響壓力的測(cè)量結(jié)果。

因此，通過(guò)合理的裝置對(duì)沉積物進(jìn)行分析，并制定合理的方式清除是十分必要的。這樣才能根據(jù)在不同使用環(huán)境中的沉積物情況，采用不同的預(yù)防和清除方式，延長(zhǎng)膜片式真空壓力計(jì)的使用壽命，提高其測(cè)量氣體壓力時(shí)的精度。

發(fā)明內(nèi)容

(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題

如何通過(guò)合理的裝置對(duì)沉積物進(jìn)行分析，以便后續(xù)根據(jù)不同成分的沉積物實(shí)現(xiàn)采用不同的預(yù)防和清除方式。

(二)技術(shù)方案

為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明實(shí)施例一方面提供了一種檢測(cè)膜片式真空壓力計(jì)沉積物的裝置，所述裝置包括：預(yù)處理腔室，用于將所述膜片式真空壓力計(jì)中帶有沉積物的膜片表面進(jìn)行預(yù)處理，去除雜質(zhì)；氣化腔室，用于將膜片表面的沉積物氣化；分析腔室，所述分析腔室與所述氣化腔室連通，用于分析氣化后的沉積物氣體的組成成分。

可選地，所述氣化腔室中設(shè)置電子槍或離子注入裝置，所述電子槍或離子注入裝置用于轟擊膜片表面的沉積物，使該沉積物氣化。

可選地，所述氣化腔室中設(shè)置第一加熱裝置，所述第一加熱裝置用于轟擊膜片表面的沉積物，使該沉積物氣化。

可選地，所述預(yù)處理腔室中設(shè)置第二加熱裝置，所述第二加熱裝置用于去除水蒸氣。

可選地，所述裝置還包括減壓裝置，所述減壓裝置設(shè)置于所述氣化腔室與所述分析腔室之間，用于對(duì)氣化后的沉積物氣體進(jìn)行減壓。

可選地，所述減壓裝置包括流體通道和設(shè)置于同一平面上的N個(gè)不同直徑的孔或孔陣，該平面垂直于所述流體通道，N≥2。

可選地，所述分析腔室中設(shè)置質(zhì)譜分析儀器。

可選地，所述質(zhì)譜分析儀器為磁偏轉(zhuǎn)質(zhì)譜計(jì)、離子阱質(zhì)譜計(jì)、四極質(zhì)譜計(jì)、飛行時(shí)間質(zhì)譜計(jì)中的一種。

可選地，所述預(yù)處理腔室、所述氣化腔室、所述分析腔室和所述減壓裝置均設(shè)置相應(yīng)的真空度。

本發(fā)明另一個(gè)方面提供了一種利用上文所述的裝置進(jìn)行膜片式真空壓力計(jì)沉積物清除的應(yīng)用。

(三)有益效果

本發(fā)明至少具有以下有益效果：

(1)通過(guò)依次連接的預(yù)處理腔室、氣化腔室、減壓裝置、和分析腔室將膜片式真空壓力計(jì)中帶有沉積物的膜片表面的沉積物氣化后，對(duì)其成分進(jìn)行分析，以便于后期在同樣的環(huán)境中進(jìn)行壓力測(cè)量時(shí)，可以有針對(duì)性地對(duì)已知成分的沉積物進(jìn)行預(yù)防和清除。