[發明專利]靶材旋轉結構、靶材安裝結構以及離子源濺射系統

有效

• 申請號: 201911423845.0
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111155062B
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 劉偉基;冀鳴;趙剛;易洪波;吳秋生
• 申請（專利權）人: 中山市博頓光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 劉延喜

本申請涉及一種靶材旋轉結構，包括：靶材安裝座以及傳動機構；所述靶材安裝座用于安裝靶材；所述傳動機構帶動所述旋轉軸轉動以轉動靶材；所述靶材安裝座通過旋轉軸與所述傳動機構連接，所述旋轉軸內設有冷卻水路，以對所述靶材進行冷卻。上述靶材旋轉結構、靶材安裝結構以及離子源濺射系統，通過靶材安裝座的旋轉軸內設置的冷卻水路，實現在冷水散熱的同時又保證靶材能正常旋轉，使得靶材可以通過水冷這種高效的散熱方式來避免溫度過高，提升了離子源濺射系統的濺射質量。

技術領域

本申請涉及離子束濺射技術領域，尤其是一種靶材旋轉結構、靶材安裝結構以及離子源濺射系統。

背景技術

離子束濺射技術是使用離子源在真空中轟擊不同材料的靶材表面，使得靶材材料沉積到產品表面的一種技術，離子束濺射技術是近些年發展起來的制備高質量薄膜的一種非常重要的方法，它具有其它制膜技術無法比擬的優點。且離子束濺射技術污染小，成膜條件精確可控。

傳統的離子濺射系統在使用過程中，每個靶材的溫度不能過高，否則容易影響鍍膜效果，而由于靶材需要設計成夠旋轉結構，現有技術中缺乏對靶材進行水冷的技術方案。

發明內容

本申請的目的旨在解決上述的技術缺陷之一，特別是缺乏對靶材進行水冷的問題。

為了實現上述目的，本申請提供以下技術方案：

一種靶材旋轉結構，包括：靶材安裝座以及傳動機構；

所述靶材安裝座用于安裝靶材；

所述傳動機構帶動所述旋轉軸轉動以轉動靶材；

所述靶材安裝座通過旋轉軸與所述傳動機構連接，所述旋轉軸內設有冷卻水路，以對所述靶材進行冷卻。

在一個實施例中，所述旋轉軸上設有環形的進水槽和出水槽，所述進水槽和出水槽通過水路連通；

所述筒體在進水槽位置上開設進水口，所述筒體在出水槽位置上開設出水口。

在一個實施例中，所述水路設于旋轉軸內部；其中，所述水路從進水槽底部通過進水路引至靶材安裝端部，并由所述靶材安裝端部通過出水路引至出水槽底部。

在一個實施例中，所述旋轉軸與筒體的兩端通過軸承固定連接，且所述旋轉軸與筒體之間為密封設計。

在一個實施例中，所述旋轉軸上設有密封槽，所述密封槽用于安裝密封圈，與所述筒體之間形成真空密封。

在一個實施例中，所述旋轉軸的進水槽與出水槽之間設有至少一個密封圈。

在一個實施例中，所述旋轉軸的進水槽與一側軸承之間設有至少兩個密封圈，所述出水槽與另一側與軸承之間設有至少兩個密封圈。

在一個實施例中，各個所述靶材安裝座的旋轉軸上的進水口與出水口依次通過管道串聯，形成一條冷卻水路。

一種靶材安裝結構，包括上述的靶材旋轉結構。

一種離子源濺射系統，包括上述的靶材旋轉結構。

上述靶材旋轉結構、靶材安裝結構以及離子源濺射系統，通過靶材安裝座的旋轉軸內設置的冷卻水路，實現在冷水散熱的同時又保證靶材能正常旋轉，使得靶材可以通過水冷這種高效的散熱方式來避免溫度過高，提升了離子源濺射系統的濺射質量。

本申請附加的方面和優點將在下面的描述中部分給出，這些將從下面的描述中變得明顯，或通過本申請的實踐了解到。

附圖說明

本申請上述的和/或附加的方面和優點從下面結合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是傳統的離子源濺射系統示意圖；