[發(fā)明專利]聲波器件的制作方法及聲波器件在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911423109.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111030627A | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃韋勝;廖珮涥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢衍熙微器件有限公司 |
| 主分類號(hào): | H03H3/007 | 分類號(hào): | H03H3/007;H03H3/02;H03H3/04;H03H3/10;H03H9/205;H03H9/25 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人: | 崔曉嵐;張穎玲 |
| 地址: | 430205 湖北省武漢市江夏區(qū)經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聲波 器件 制作方法 | ||
本公開實(shí)施例公開了一種聲波器件的制作方法及聲波器件,所述方法包括:鍵合第一襯底和第二襯底,形成鍵合襯底;在所述鍵合襯底的第一表面形成第一諧振結(jié)構(gòu);在所述鍵合襯底的第二表面形成第二諧振結(jié)構(gòu);其中,所述第二表面與所述第一表面為相反面。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開實(shí)施例涉及聲波器件領(lǐng)域,特別涉及一種聲波器件的制作方法及聲 波器件。
背景技術(shù)
在廣泛使用的諸如移動(dòng)電話的通信設(shè)備中,通常包括使用聲波的聲波器件 作為通訊設(shè)備的濾波器。作為聲波器件的示例,存在使用表面聲波(Surface Acoustic Wave,SAW)的器件、或者使用體聲波(Bulk Acoustic Wave,BAW) 的器件等。聲波器件的性能會(huì)影響通信設(shè)備的通信效果。
隨著通訊技術(shù)的發(fā)展,如何在順應(yīng)通信設(shè)備集成化和小型化發(fā)展趨勢(shì)的同 時(shí),提高聲波器件的性能成為亟待解決的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本公開實(shí)施例提供一種聲波器件的制作方法及聲波器件。
根據(jù)本公開實(shí)施例的第一方面,提供一種聲波器件的制作方法,包括:
鍵合第一襯底和第二襯底,形成鍵合襯底;
在所述鍵合襯底的第一表面形成第一諧振結(jié)構(gòu);
在所述鍵合襯底的第二表面形成第二諧振結(jié)構(gòu);
其中,所述第二表面與所述第一表面為相反面。
可選地,所述方法還包括:
形成所述第一諧振結(jié)構(gòu)和所述第二諧振結(jié)構(gòu)的連接結(jié)構(gòu)。
可選地,所述形成所述第一諧振結(jié)構(gòu)和所述第二諧振結(jié)構(gòu)的連接結(jié)構(gòu),包 括:
在形成所述第一諧振結(jié)構(gòu)之后,從所述第二表面形成貫穿所述鍵合襯底的 第一通孔;
在所述第一通孔中形成貫穿所述鍵合襯底的導(dǎo)電柱;其中,所述第二諧振 結(jié)構(gòu)通過(guò)所述導(dǎo)電柱與所述第一諧振結(jié)構(gòu)連接。
可選地,所述第一襯底包括:第一壓電層;
所述在所述鍵合襯底的第一表面形成第一諧振結(jié)構(gòu),包括:
在所述第一壓電層表面形成叉指電極以形成所述第一諧振結(jié)構(gòu)。
可選地,所述在所述鍵合襯底的第二表面形成第二諧振結(jié)構(gòu),包括:
在所述第二表面依次形成所述第二諧振結(jié)構(gòu)的反射結(jié)構(gòu)、覆蓋所述反射結(jié) 構(gòu)的第一電極層、第二壓電層和第二電極層。
可選地,所述在所述第二表面依次形成所述第二諧振結(jié)構(gòu)的反射結(jié)構(gòu)、覆 蓋所述反射結(jié)構(gòu)的第一電極層、第二壓電層和第二電極層,包括:
在所述第二表面形成交替層疊設(shè)置的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層,以形成所 述反射結(jié)構(gòu);其中,所述第一介質(zhì)層的聲阻抗和所述第二介質(zhì)層的聲阻抗不同;
形成覆蓋所述交替層疊設(shè)置的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的所述第一電極層;
形成覆蓋所述第一電極層的所述第二壓電層;
形成覆蓋所述第二壓電層的第二電極層。
可選地,所述在所述第二表面依次形成所述第二諧振結(jié)構(gòu)的反射結(jié)構(gòu)、覆 蓋所述反射結(jié)構(gòu)的第一電極層、第二壓電層和第二電極層,包括:
在所述第二表面形成第一犧牲層;
形成覆蓋所述第一犧牲層的所述第一電極層;
形成覆蓋所述第一電極層的所述第二壓電層;
形成覆蓋所述第二壓電層的所述第二電極層;
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