[發(fā)明專利]粗糙化的基板支撐件

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• 申請日: 2013-07-12
• 公開（公告）號: CN111485226A
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: D·李;W·N·斯特林;樸范洙;崔壽永
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;H01L21/687;B24C1/00;B24C1/06
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種基板支撐件，包括：

基板支撐件主體，具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于約707微英寸及約834微英寸之間；以及

陽極處理涂布層，位于所述基板支撐件上，其中所述基板支撐件主體的所述表面粗糙度轉(zhuǎn)變成所述陽極處理涂布層。

2.如權(quán)利要求1所述的基板支撐件，其中所述基板支撐件主體包括鋁。

3.如權(quán)利要求1所述的基板支撐件，其中所述陽極處理涂布層的厚度介于約23μm至約27μm之間。

4.如權(quán)利要求1所述的基板支撐件，其中所述基板支撐件主體具有內(nèi)表面，其中所述內(nèi)表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度轉(zhuǎn)變成所述陽極處理涂布層。

5.如權(quán)利要求1所述的基板支撐件，進一步包括一基板，其中所述陽極處理涂布層具有外表面，所述外表面具有被配置成促進沉積于基板上的膜厚的均勻度的表面拋光。

6.如權(quán)利要求5所述的基板支撐件，其中所述表面拋光具有約707微英寸至約847微英寸的粗糙度。

7.如權(quán)利要求1所述的基板支撐件，其中所述基板支撐件主體包括粗糙化高原部和粗糙化凹部。

8.如權(quán)利要求1所述的基板支撐件，其中所屬基板支撐件主體包括用于接觸基板的尖端和邊緣。

9.一種基板支撐件，包括粗糙化基板支撐件主體，所述粗糙化基板支撐件主體由噴珠工藝形成，所述噴珠工藝包括：

于第一工藝中對所述基板支撐件主體的表面進行噴珠，其中所述珠體具有第一磨粒尺寸；以及

于第二工藝中對所述基板支撐件主體的所述表面進行噴珠，其中所述珠體具有第二磨粒尺寸，所述第二磨粒尺寸小于所述第一磨粒尺寸，其中所述第二工藝進一步包括：

使所述噴嘴于第一方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；

沿著所述基板支撐件的所述表面轉(zhuǎn)換所述噴嘴于第二方向中；

使所述噴嘴于第三方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；

轉(zhuǎn)動所述基板支撐件約90度；

使所述噴嘴于所述第一方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；

沿著所述基板支撐件的所述表面轉(zhuǎn)換所述噴嘴于所述第二方向中；以及

使所述噴嘴于所述第三方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；以及

對所述基板支撐件主體進行陽極處理以形成陽極處理涂布層，其中所述粗糙化基板支撐件主體的所述經(jīng)噴珠處理的表面轉(zhuǎn)變成所述陽極處理涂布層，并且其中所述粗糙化基板支撐件主體具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于約707微英寸及約834微英寸之間。

10.一種基板支撐件，包括粗糙化基板支撐件主體和基板，所述粗糙化基板支撐件主體由噴珠工藝形成，所述噴珠工藝包括：

于第一工藝中對所述基板支撐件主體的表面進行噴珠，其中所述珠體具有第一磨粒尺寸；以及

于第二工藝中對所述基板支撐件主體的所述表面進行噴珠，其中所述珠體具有第二磨粒尺寸，所述第二磨粒尺寸小于所述第一磨粒尺寸，其中所述第二工藝進一步包括：

使所述噴嘴于第一方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；

沿著所述基板支撐件的所述表面轉(zhuǎn)換所述噴嘴于第二方向中；

使所述噴嘴于第三方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；

轉(zhuǎn)動所述基板支撐件約90度；

使所述噴嘴于所述第一方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；

沿著所述基板支撐件的所述表面轉(zhuǎn)換所述噴嘴于所述第二方向中；以及

使所述噴嘴于所述第三方向中掃描過所述基板支撐件的所述表面；以及

對所述基板支撐件主體進行陽極處理以形成陽極處理涂布層，其中所述粗糙化基板支撐件主體的所述經(jīng)噴珠處理的表面轉(zhuǎn)變成所述陽極處理涂布層，其中所述陽極處理涂布層具有外表面，所述外表面具有被配置成促進沉積于所述基板上的膜厚的均勻度的表面拋光，并且

其中所述表面拋光具有約707微英寸至約847微英寸的粗糙度。