[發明專利]標定方法及裝置、處理器、電子設備、存儲介質有效
| 申請號: | 201911420020.3 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN111060138B | 公開(公告)日: | 2022-01-28 |
| 發明(設計)人: | 慕翔;陳丹鵬 | 申請(專利權)人: | 上海商湯智能科技有限公司 |
| 主分類號: | G01C25/00 | 分類號: | G01C25/00 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永強;董文俊 |
| 地址: | 200233 上海市徐*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 標定 方法 裝置 處理器 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種標定方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取成像設備的至少兩個位姿和慣性傳感器的至少兩個第一采樣數據;
對所述至少兩個位姿進行樣條擬合處理得到第一樣條曲線,對所述至少兩個第一采樣數據進行樣條擬合處理得到第二樣條曲線;
獲取預設的參考位姿轉換關系;
依據所述參考位姿轉換關系對所述第二樣條曲線進行轉換,得到第三樣條曲線;
依據所述第一樣條曲線與所述第三樣條曲線,得到第一差異;
在所述第一差異小于或等于第一閾值的情況下,確定所述參考位姿轉換關系為所述成像設備與所述慣性傳感器之間的時空偏差,所述時空偏差包括位姿轉換關系;
或,獲取成像設備的至少兩個位姿和慣性傳感器的至少兩個第一采樣數據;
對所述至少兩個位姿進行樣條擬合處理得到第一樣條曲線,對所述至少兩個第一采樣數據進行樣條擬合處理得到第二樣條曲線;
獲取預設的第二時間偏移量;
將所述第一樣條曲線中的點的時間戳與所述第二時間偏移量相加,得到第九樣條曲線;
依據所述第九樣條曲線與所述第二樣條曲線,得到第四差異;
在所述第四差異小于或等于第四閾值的情況下,確定所述第二時間偏移量為所述成像設備與所述慣性傳感器之間的時空偏差,所述時空偏差包括采樣時間偏移量。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述時空偏差包括所述位姿轉換關系的情況下,所述時空偏差還包括采樣時間偏移量;所述第一樣條曲線中的點均攜帶時間戳信息;
所述在所述第一差異小于或等于第一閾值的情況下,確定所述參考位姿轉換關系為所述成像設備與所述慣性傳感器之間的位姿轉換關系之前,所述方法還包括:
獲取預設的第一時間偏移量;
將所述第三樣條曲線中的點的時間戳與所述第一時間偏移量相加,得到第四樣條曲線;
所述依據所述第一樣條曲線與所述第三樣條曲線,得到第一差異,包括:
依據所述第四樣條曲線與所述第一樣條曲線,得到所述第一差異;
所述在所述第一差異小于或等于第一閾值的情況下,確定所述參考位姿轉換關系為所述成像設備與所述慣性傳感器之間的位姿轉換關系,包括:
在所述第一差異小于或等于所述第一閾值的情況下,確定所述參考位姿轉換關系為所述成像設備與所述慣性傳感器之間的位姿轉換關系,以及確定所述第一時間偏移量為所述成像設備與所述慣性傳感器之間的采樣時間偏移量。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述慣性傳感器包括慣性測量單元;所述至少兩個位姿包括至少兩個姿態;所述至少兩個第一采樣數據包括至少兩個第一角速度;
所述對所述至少兩個位姿進行樣條擬合處理得到第一樣條曲線,包括:
依據所述至少兩個姿態,得到所述成像設備的至少兩個第二角速度;
對所述至少兩個第二角速度進行樣條擬合處理,得到所述第一樣條曲線;
所述對所述至少兩個第一采樣數據進行樣條擬合處理得到第二樣條曲線,包括:
對所述至少兩個第一角速度進行樣條擬合處理,得到所述第二樣條曲線。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海商湯智能科技有限公司,未經上海商湯智能科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911420020.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





