[發(fā)明專利]一種拋光設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911416208.0
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN113118938A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設計）人: 楊兆明;顏凱;中原司
• 申請（專利權）人: 浙江芯暉裝備技術有限公司
• 主分類號: B24B27/00
• 分類號: B24B27/00;B24B29/02;B24B53/007;B24B41/00;B24B55/06;B08B3/04
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本發(fā)明涉及拋光技術領域，公開一種拋光設備。所述拋光設備包括安裝臺、傳送機構和拋光機構。安裝臺上沿第一水平方向排列設置有多個獨立的拋光區(qū)。傳送機構沿第一水平方向可移動地設置在安裝臺上，以傳送晶圓。每個拋光區(qū)內(nèi)均設置有拋光機構，拋光機構包括拋光盤和拋光頭，拋光盤和拋光頭均可轉(zhuǎn)動地設置在安裝臺上，拋光頭沿第二水平方向可移動且沿豎直方向可升降地設置在安裝臺上，以吸附傳送機構上的晶圓，并將晶圓移動至拋光盤的上方，拋光盤能夠與拋光頭相配合對晶圓進行拋光。本發(fā)明提供的拋光設備，能夠有效提高拋光良率和拋光效率，同時適用范圍廣，能夠滿足多種拋光精度的要求。

技術領域

本發(fā)明涉及拋光技術領域，尤其涉及一種拋光設備。

背景技術

在晶圓生產(chǎn)過程中，通常需要利用拋光設備對晶圓進行拋光。但是，現(xiàn)有的拋光設備不僅拋光良率低，而且拋光效率低，同時適用范圍小，不能滿足多種拋光精度要求。因此，亟需一種新型的拋光頭驅(qū)動裝置以解決上述技術問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種拋光設備，能夠有效提高拋光良率和拋光效率，同時適用范圍廣，能夠滿足多種拋光精度的要求。

為達上述目的，本發(fā)明采用以下技術方案：

一種拋光設備，包括：

安裝臺，其上沿第一水平方向排列設置有多個獨立的拋光區(qū)；

傳送機構，沿所述第一水平方向可移動地設置在所述安裝臺上，以傳送晶圓；

拋光機構，每個所述拋光區(qū)內(nèi)均設置有所述拋光機構，所述拋光機構包括拋光盤、拋光頭和拋光頭清洗器，所述拋光盤和所述拋光頭均可轉(zhuǎn)動地設置在所述安裝臺上，所述拋光頭沿第二水平方向可移動且沿豎直方向可升降地設置在所述安裝臺上，所述拋光頭能夠吸附所述傳送機構上的所述晶圓，并將所述晶圓移動至所述拋光盤的上方，所述拋光盤能夠與所述拋光頭相配合對所述晶圓進行拋光，所述拋光頭清洗器固定設置在所述安裝臺上，所述拋光頭沿所述第二水平方向移動時能夠由所述拋光頭清洗器的上方經(jīng)過，以使所述拋光頭清洗器能夠清洗所述拋光頭。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，所述拋光機構還包括拋光盤清洗器，所述拋光盤清洗器可轉(zhuǎn)動地設置在所述安裝臺上且位于所述拋光盤的一側(cè)，以清洗所述拋光盤。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，多個所述拋光區(qū)的拋光精度沿所述第一水平方向依次增高。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，所述拋光區(qū)的數(shù)量為三個，三個所述拋光區(qū)依次為粗拋區(qū)、中拋區(qū)和精拋區(qū)。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，還包括裝載機械手，所述安裝臺上還設置有裝載區(qū)，盛裝有待拋光的所述晶圓的裝載晶圓盒能夠放置在所述裝載區(qū)，所述裝載機械手能夠?qū)⑺鼍A由所述裝載晶圓盒中取出并放置在所述傳送機構上。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，還包括卸載機械手，所述安裝臺上還設置有卸載區(qū)，卸載晶圓盒能夠放置在所述卸載區(qū)，拋光后的所述晶圓能夠被放置在所述傳送機構上，所述卸載機械手能夠?qū)⑺鰝魉蜋C構上的拋光后的所述晶圓放入至所述卸載晶圓盒中。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，所述卸載區(qū)設置有水槽，盛裝有所述晶圓的所述卸載晶圓盒能夠浸沒在所述水槽中。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，所述裝載區(qū)沿所述第二水平方向與拋光精度最低的所述拋光區(qū)相對設置；和/或

所述卸載區(qū)沿所述第二水平方向與拋光精度最高的所述拋光區(qū)相對設置。

作為所述拋光設備的優(yōu)選方案，所述拋光機構還包括安裝架，所述安裝架沿所述第二水平方向可移動且沿豎直方向可升降地設置在所述安裝臺上，每個所述拋光機構中包括至少兩個所述拋光頭，至少兩個所述拋光頭均可轉(zhuǎn)動地安裝在所述安裝架上，以使至少兩片所述晶圓能夠在同一個所述拋光盤上拋光。